[发明专利]无源核子料位计的背景辐射修正测量方法及其系统

权利要求书

1.一种无源核子料位计的背景辐射修正测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在预设时间段T1内，测得物料的进入与输出过程具备循环周期特性的容器内部的物料辐射与容器内部及外部的背景辐射之和；

S2：提取所述物料辐射和背景辐射之和中的最小值或与该最小值相关的值作为背景辐射特征值；

S3：根据设定好的数据模型对所述背景辐射特征值进行分析和运算获得背景辐射修正数据；

S4：根据背景辐射修正数据对无源核子料位计的测量进行修正；

其中，所述背景辐射特征值为所述容器空仓时测得物料辐射和背景辐射之和；

且在所述S4中，通过以下任意一种方式对无源核子料位计的测量进行修正：

对无源核子料位计的测量结果进行修正、对无源核子料位计的测量模型进行修正、对与无源核子料位计的测量结果相关的输出参数或控制指令进行修正。

2.根据权利要求1所述的无源核子料位计的背景辐射修正测量方法，其特征在于，所述T1大于所述容器中物料的进入与输出的循环周期T。

3.一种无源核子料位计的背景辐射修正测量系统，其特征在于，由运算处理器和至少一部无源核子料位计组成，所述无源核子料位计中至少有一部对着物料的进入与输出过程具备循环周期特性的容器且靠近该容器外壁放置；

系统内所有无源核子料位计均与所述运算处理器连接；

所述对着容器放置的无源核子料位计中至少有一部用于在预设时间段T1内，测得所述容器内部的物料辐射与容器内部及外部的背景辐射之和；

所述运算处理器用于提取所述物料辐射和背景辐射之和中的最小值或与该最小值相关的值作为背景辐射特征值，还用于根据设定好的数据模型对所述背景辐射特征值进行分析和运算获得背景辐射修正数据，并将所述背景辐射修正数据发送给系统内的无源核子料位计；

所述系统内的无源核子料位计用于根据所述背景辐射修正数据对自身物料料位的测量进行修正。

4.根据权利要求3所述的无源核子料位计的背景辐射修正测量系统，其特征在于，所述运算处理器集成在所述无源核子料位计内部。

5.根据权利要求3所述的无源核子料位计的背景辐射修正测量系统，其特征在于，所述运算处理器为所述无源核子料位计中的运算处理模块。

6.一种无源核子料位计的背景辐射修正测量系统，其特征在于，由运算处理器、至少一部无源核子料位计以及至少一部辐射测量传感器组成；

所述辐射测量传感器对着物料的进入与输出过程具备循环周期特性的容器且靠近该容器外壁放置；

所述辐射测量传感器、运算处理器和无源核子料位计依次相连；

所述辐射测量传感器用于在预设时间段T1内测得所述容器内部的物料辐射与容器内部及外部的背景辐射之和，并将所述物料辐射和背景辐射之和发送给运算处理器；

所述运算处理器用于从所述物料辐射和背景辐射之和中提取出最小值或与该最小值相关的值作为背景辐射特征值；还用于根据设定好的数据模型对所述背景辐射特征值进行分析和运算获得背景辐射修正数据，并将所述背景辐射修正数据发送给系统内的无源核子料位计；

系统内的无源核子料位计用于根据所述背景辐射修正数据对自身物料料位的测量进行修正。

7.根据权利要求6所述的无源核子料位计的背景辐射修正测量系统，其特征在于，所述运算处理器集成在所述无源核子料位计或辐射测量传感器内部。

8.根据权利要求6所述的无源核子料位计的背景辐射修正测量系统，其特征在于，所述运算处理器为所述无源核子料位计或辐射测量传感器中的运算处理模块。