[发明专利]一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂纹激光剥离方法在审
申请号: | 201410650320.1 | 申请日: | 2014-11-14 |
公开(公告)号: | CN105590841A | 公开(公告)日: | 2016-05-18 |
发明(设计)人: | 刘南柳;梁智文;李顺峰;张国义 | 申请(专利权)人: | 东莞市中镓半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 523518 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 氮化 支撑 衬底 碎裂 激光 剥离 方法 | ||
1.一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂纹激光剥离方法,其特 征在于,在氮化镓厚膜/蓝宝石衬底(2)的氮化镓厚膜(22)与激光 剥离载物台(1)间,制备与氮化镓厚膜(22)与激光剥离载物台(1) 紧密贴接的应力缓冲支撑层(4),用于激光剥离工艺,利用该应力缓 冲支撑层(4)的反弹力fb,来减小并缓冲因高能量密度的激光束聚 焦照射蓝宝石衬底(2)与氮化镓厚膜(22)间界面(24)的局部, 使该处氮化镓被高热急速分解膨胀而产生的冲击力fi对氮化镓厚膜 (22)的冲击,从而防止在激光剥离过程中氮化镓厚膜(22)发生 碎裂纹的现象。
2.根据权利要求1所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述制备应力缓冲支撑层(4)用于 激光剥离工艺,主要包括以下步骤:
首先,在激光剥离载物台(1)的上表面(11)制备液态缓冲层 (3);其后,将待剥离的氮化镓厚膜/蓝宝石衬底(2)的氮化镓厚膜 (22)的镓极性面(23)紧密贴接液态缓冲层(3)并被其覆盖;然 后,通过工艺处理使液态缓冲层(3)固化而形成应力缓冲支撑层(4), 并与氮化镓厚膜(22)的镓极性面(23)及激光剥离载物台(1)的 上表面(11)形成紧密贴接;再后,用激光剥离方法使氮化镓厚膜(22) 与蓝宝石(21)从界面(24)处分离;最后,使应力缓冲支撑层(4) 从激光剥离载物台(1)的上表面(11)与氮化镓厚膜(22)的镓极 性面(23)分离去除;最终,得到单一的氮化镓厚膜(22)即氮化 镓自支撑衬底(5)。
3.根据权利要求1所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述氮化镓厚膜/蓝宝石衬底的氮化 镓厚膜(22)的厚度范围为10~1000微米,最优为50~400微米。
4.根据权利要求2所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述液态缓冲层(3)的制备方式, 可以采用滴涂或喷涂或旋涂或提拉或帘式涂布的薄膜制备方式。
5.根据权利要求2所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述液态缓冲层(3)的材料,是通 过固化从液态或者熔融态变成固态的,其材料可以选用热固性材料或 硅胶或光催化固化胶或石蜡材料;所述应力缓冲支撑层(4)的弹性、 硬度以及黏度,由液态缓冲层(3)的材料性质及固化特性而定。
6.根据权利要求2所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述液态缓冲层(3)的厚度,主要 由涂布的溶液量、溶液的浓度、黏度,以及涂布的工艺条件(平/转 动速率,涂布时间)决定,液态缓冲支层(3)的厚度为1~1000微 米,最优为10~300微米。
7.根据权利要求2所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述应力缓冲支撑层(4)的分离去 除方式,可以是机械撕裂方式,或是应力缓冲层的逆固化方式,如加 温或溶剂溶解或老化等。
8.根据权利要求5所述的一种制备氮化镓自支撑衬底的无碎裂 纹激光剥离方法,其特征在于,所述液态缓冲层(3)的固化方式, 可以是加热固化方式或是光催化固化方式或是辐射固化方式。
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