[发明专利]一种改进的区熔气掺单晶的掺杂气路在审
| 申请号： | 201410653127.3 | 申请日： | 2014-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN104313697A | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 张雪囡;王彦君;韩暐;杨旭洲;王克旭;石海涛;吴峰;刘铮 | 申请（专利权）人： | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B31/16 | 分类号： | C30B31/16 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人： | 韩敏 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改进 区熔气掺单晶 掺杂 | ||
【权利要求书】：
1.一种改进的区熔气掺单晶的掺杂气路，所述掺杂气路管道主体结构设计为“工”字型，所述“工”字型掺杂气路一端连通保护气进气口、掺杂气进气口，另一端连通出气口及排气口，所述出气口进入炉膛内部，所述保护气进气口、掺杂气进气口及出气口均设有流量计，所述排气口设有压力阀。
2.根据权利要求1所述的一种改进的区熔气掺单晶的掺杂气路，其特征在于：所述掺杂气进气口位于所述保护气进气口上方，所述出气口位于所述排气口上方。
3.根据权利要求1所述的一种改进的区熔气掺单晶的掺杂气路，其特征在于：所述“工”字型掺杂气路的管道内径为0.3-0.6cm。
4.根据权利要求1所述的一种改进的区熔气掺单晶的掺杂气路，其特征在于：所述保护气进气口的流量范围控制在0-10L/min，所述掺杂气进气口的流量范围控制在0-0.5L/min，所述出气口的流量范围控制在0-150ml/min，所述排气口压力的调节范围控制在0-20bar。
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