[发明专利]一种高温合金复合纳米晶涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高温合金复合纳米晶涂层，其特征在于：该复合纳米晶涂层由底层与面层组成；底层为溅射纳米晶涂层，面层为NiCrAlY涂层。

2.按照权利要求1所述高温合金复合纳米晶涂层，其特征在于：复合纳米晶涂层的底层为柱状纳米晶涂层，柱状晶尺寸小于100nm，厚度为18～40um，其成分与高温合金基体一致。

3.根据权利要求1所述高温合金复合纳米晶涂层，其特征在于：所述NiCrAlY面层成分为Cr：24～29wt％，Al：9～13wt％，Al+Cr：33～40wt％，Y：0～1wt％，余量为Ni；纳米晶底层涂层的厚度为NiCrAlY面层厚度的1.5～3倍。

4.按照权利要求1所述高温合金复合纳米晶涂层，其特征在于：涂层的总体厚度为30～60um。

5.一种按照权利要求1所述高温合金复合纳米晶涂层的制备方法，其特征在于：采用磁控溅射方法制备纳米晶底层，采用多弧离子镀方法制备NiCrAlY面层。

6.按照权利要求5所述高温合金复合纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射方法的具体步骤为：(1)真空熔炼与高温合金基体成分一致的合金靶材；(2)将所镀零件打磨处理后清洗；(3)采用磁控溅射制备纳米晶底层，工艺参数为：

真空度：P﹤6×10^-3Pa

功率：2000W

氩气：0.10Pa

基片温度：200～250℃

沉积时间：6～14小时。

7.按照权利要求5所述高温合金复合纳米晶涂层的制备方法，其特征在于，所述多弧离子镀方法的具体步骤为：

(1)真空熔炼NiCrAlY面层合金靶材；

(2)取已磁控溅射纳米晶底层涂层的零件在多弧离子镀真空室内离子清洗，具体参数为：

真空度：P﹤6×10^-3Pa

电弧电流：65-75A

基片负偏压：900V

氩气：0.1Pa

清洗时间：3～10min；

(3)采用多弧离子镀制备NiCrAlY面层，具体参数为：

真空度：P﹤6×10^-3Pa

电弧电流：65-75A

基片负偏压：50V

基片温度：200～250℃

氩气：0.1Pa

沉积时间：1-3h。