[发明专利]一种基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置

权利要求书

1.一种基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，包括第一激光器、第二激光器和样品台；

沿第一激光器的光路依次布置有倍频发生器、延时发生器、能量衰减器和光路爬高系统，经光路爬高系统出射的激光由样品台正上方聚焦至样品表面，产生羽流；

第二激光器产生的激光用于对羽流进行原子激发，发出特征谱线；

还包括信号采集和处理系统，根据所述的特征谱线和第一激光器击打样品的空间信息，显示元素在样品表面的分布信息。

2.如权利要求1所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的信号采集和处理系统包括：

光纤收集系统，用于收集所述的特征谱线；

分光系统，用于对特征谱线进行分光；

探测器，用于将分光系统的光信号转换为电信号；

样本表面成像系统，用于监控第一激光击打样品位置，得到采样点的空间信息和样品表面信息；

计算机，根据所述的电信号和采样点的空间信息，显示元素在样品表面的分布信息。

3.如权利要求2所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的分光系统为中阶梯光栅光谱仪。

4.如权利要求2所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的样本表面成像系统包括：

用于从正方向照明样品的照明LED光源，

位于照明LED光源光轴上的分束镜，

CCD相机和成像镜头，用于采集分束镜反射的采样点的空间信息和样品表面信息。

5.如权利要求1所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的光路爬高系统由第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜组成，所述第二反射镜位于第一反射镜的正上方，第三反射镜位于样品台的正上方；

所述的第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜均为Nd：YAG三倍频激光反射镜。

6.如权利要求1所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的延时发生器控制第一激光器和第二激光器触发时间，设置第一激光器调Q信号的触发时间在氙灯信号触发之后150±20μs。

7.如权利要求1所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，第一激光器为Nd:YAG固体脉冲激光器，第二激光器为准分子激光器；

所述的第一激光器和第二激光器对应的聚焦透镜为紫外熔融石英玻璃，焦距分别为50mm和75mm。

8.如权利要求1所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的聚焦透镜安装在沿光轴滑动配合的透镜安装架上。

9.如权利要求1所述的基于激光烧蚀羽流的原子荧光光谱装置，其特征在于，所述的样品台包括具有四自由度的电移台、活动安装在电移台上的升降板和滑动配合在电移台上的载物台；

所述升降板上设有透明的约束窗口，激光透过约束窗口后击打样品；

所述升降板的下方设有约束板，该约束板置于样品的正上方，约束板上分布有约束腔，该约束腔用于约束样品激发的羽流。

10.如权利要求9所述的多模式激光诱导击穿光谱装置，其特征在于，所述的升降板上设有透光口，该透光口处覆盖有透光板，所述透光口与透光板组成所述的约束窗口。