[发明专利]一种无背部大声学腔体的MEMS硅麦克风在审

专利信息
申请号: 201410653763.6 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN104378724A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 缪建民 申请(专利权)人: 缪建民
主分类号: H04R19/04 分类号: H04R19/04
代理公司: 上海浦东良风专利代理有限责任公司 31113 代理人: 陈志良
地址: 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 背部 声学 mems 麦克风
【权利要求书】:

1.一种无背部大声学腔体的MEMS硅麦克风,包括背极板硅基(1)及位于所述背极板硅基(1)上方的振膜(2),其特征在于:背极板硅基(1)和振膜(2)均导电良好,作为麦克风电容的两极板;背极板硅基(1)上沉积有背极板金属电极(5),背极板金属电极的材质为Al/Cu合金或Al/Cu合金加上Au,背极板金属电极(5)和背极板硅基(1)电连接;背极板硅基(1)上设有若干个TSV声孔(3),TSV声孔(3)直接与大气相通;振膜(2)上设有小凸柱(7);振膜(2)上沉积有振膜电极(8),振膜电极(8)和振膜(2)电连接;振膜电极(8)和背极板金属电极(5)分别为麦克风电容两极板的输出信号引出端,用来与CMOS信号放大电路实现电连接;振膜(2)和背极板硅基(1)经硅硅键合工艺键合成一体,振膜(2)由氧化硅层(6)支撑悬于背极板硅基(1)的上方,振膜(2)和背极板硅基(1)之间有气隙(4),背极板硅基(1)、振膜(2)和气隙(4)形成电容结构。

2.根据权利要求 1 所述的一种无背部大声学腔体的MEMS硅麦克风,其特征在于:所述振膜(2)上设有的小凸柱(7)为高硅氮化硅层,小凸柱(7)阻止振膜(2)和背极板硅基(1)吸合在一起。

3.根据权利要求 1 所述的一种无背部大声学腔体的MEMS硅麦克风,其特征在于:所述的振膜(2)和背极板硅基(1)之间的气隙(4)由湿法刻蚀氧化硅形成,振膜(2)厚度为1~7μm,背极板硅基(1)的厚度为400μm。

4.根据权利要求 1 所述的一种无背部大声学腔体的MEMS硅麦克风,其特征在于:所述的无背部大声学腔体的MEMS硅麦克风采用贯通整个背极板硅基(1)的TSV声孔(3)来实现振膜(2)与外界大气间的连通,所述的TSV声孔(3)设有50~150个,单个孔径为20~40μm。

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