[发明专利]一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路有效

专利信息
申请号: 201410654187.7 申请日: 2014-11-17
公开(公告)号: CN104328484A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 王彦君;张雪囡;韩暐;郝大维;刘琨;骆红磊;边智学;王遵义 申请(专利权)人: 天津市环欧半导体材料技术有限公司
主分类号: C30B13/12 分类号: C30B13/12;C30B29/06;F17D1/02
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 韩敏
地址: 300384 天津市滨海新区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 区熔气掺单晶 掺杂
【权利要求书】:

1.一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路,所述掺杂气路管道结构为“π”字型,所述“π”字型掺杂气路中间为一段足够长的L段管道,所述L段管道的一端连通保护气进气口、掺杂气进气口,另一端连通出气口及排气口,所述出气口进入炉膛内部,所述保护气进气口、掺杂气进气口及出气口均设有流量计,所述排气口设有压力阀。

2.根据权利要求1所述的一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路,其特征在于:所述掺杂气进气口位于所述保护气进气口上方,所述出气口位于所述排气口上方。

3.根据权利要求1所述的一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路,其特征在于:所述L段管道的长度为35-50cm。

4.根据权利要求1所述的一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路,其特征在于:所述“π”字型掺杂气路的管道内径为0.3-0.6cm。

5.根据权利要求1所述的一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路,其特征在于:所述保护气进气口的流量范围控制在0-10L/min,所述掺杂气进气口的流量范围控制在0-0.5L/min,所述出气口的流量范围控制在0-100ml/min,所述排气口压力的调节范围控制在0-10bar。

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