[发明专利]辐射源蒸发系统及蒸镀控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于材料蒸镀的蒸发系统及方法。具体涉及一种用于OLED 蒸镀设备中的带有辐射源的蒸发系统及蒸镀控制方法。

背景技术

在真空环境中，将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀，或叫真空镀膜。 在OLED发光二极管领域中，真空蒸镀是一项非常重要关键的技术，该技术直接 影响OLED产品的质量和制造成本。真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行 蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。蒸镀通常可以在圆柱形涂镀 室内分批进行。涂镀室直径可达几米，取决于涂镀零件的大小和数量。零件可 以绕蒸汽源做行星运动，以在零件各边均匀地涂镀金属层。

目前OLED蒸镀设备所采用是蒸发方式是将材料填入坩埚，然后通过电热 丝坩埚进行加热，整个加热过程通过监控蒸发速率，藉由PID对电阻加热丝功 率进行控制，以达到稳定蒸发速率。

如图1的反馈环路所示，整个反馈环路中，电流的变化到速率的变化是通 过热传导完成的，这个响应的时间较长。尤其是对于升华性材料，更难以精确 控制.从加热到速率稳定需较长时间。造成时间较长原因有：电热丝升温速率较 慢、电热丝与坩埚之间的热传导系数较低、坩埚内材料的质量以及材料本热力 学特性等。

例如：专利申请号为：201020203146.3的中国实用新型专利，公开了一种 蒸镀设备，包括蒸镀室，位于蒸镀室内的坩埚，加热坩埚的蒸发源，基板，还 包括有孔的挡板，挡板位于坩埚与基板之间，挡板上设有加热装置。此专利就 是采用传统热传导方式进行蒸镀的典型范例，其加热装置一般采用加热丝、加 热管或加热片等。因此，温度变化速率相对较慢，且不易控制。

鉴于传统蒸镀设备的状况，我们尤为需要一种更加高效更容易有效控制的 蒸镀蒸发系统，来满足时代进步的需求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种辐射源蒸发系统及蒸镀控制方法，以克服现有 技术所存在的温度变化速率相对较慢，且不易控制等缺陷。

本发明在一方面提供一种辐射源蒸发系统，包括:

用于承载蒸镀材料的载台，以及

用于产生辐射源以照射于载台上的蒸镀材料使得蒸镀材料受热蒸发的辐射 产生器。

本发明的有益效果在于：彻底改变传统热传导蒸发蒸镀方式，通过激 光辐射作为辐射源，以有效控制蒸镀的速率。

本发明辐射源蒸发系统的进一步改进在于，

设置于载台上方的喷嘴工具，用于将蒸镀材料喷洒于所述载台上。

本发明辐射源蒸发系统的进一步改进在于，

载台为旋转作动的圆形载台；

利用喷嘴工具在所述圆形载台上的喷洒的蒸镀材料呈环状。

本发明辐射源蒸发系统的进一步改进在于，

圆形载台上设置有用于容置所述蒸镀材料并与所述辐射发生器对应以供接 收所述辐射源的加热环，辐射源通过加热环对蒸镀材料加热蒸发。

本发明辐射源蒸发系统的进一步改进在于，

载台为左右作动的矩形载台；

喷嘴工具包括设于矩形载台左侧端的第一喷嘴工具和位于矩形载台右侧端 的第二喷嘴工具；利用第一喷嘴工具在矩形载台上喷洒的第一蒸镀材料和利用 第二喷嘴工具在矩形载台上喷洒的第二蒸镀材料呈条状；

辐射产生器配置于矩形载台的中间位置处，产生的辐射源用于在矩形载台 左右作动时对移动至所述辐射源之下的第一蒸镀材料和第二蒸镀材料加热蒸 发。

本发明辐射源蒸发系统的进一步改进在于，

还包括用于覆盖蒸镀材料的保护体；保护体开设有供辐射源通过的开口， 辐射源包括激光辐射。

本发明还提供一种蒸镀控制方法，包括以下步骤：

1)设置载台，并在所述载台上喷洒蒸镀材料；

2)通过加设的辐射产生器对蒸镀材料进行加热蒸发；

3)控制辐射产生器的输出功率，以控制蒸镀材料的蒸镀速率。

本发明蒸镀控制方法的进一步改进在于，

步骤1)之后步骤2)之前还包括在蒸镀材料上覆盖一层保护体的步骤， 以形成初步保护。

本发明的优点：改进传统蒸镀方式，更好有效控制蒸发效率。

附图说明

图1为传统蒸镀系统流程示意图；

图2为本发明蒸镀控制方法的流程示意图；