[发明专利]一种有机电致发光装置及其制备方法有效
申请号: | 201410654749.8 | 申请日: | 2014-11-17 |
公开(公告)号: | CN104393183B | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 刘巍 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人: | 彭秀丽 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 电致发光 装置 及其 制备 方法 | ||
1.一种有机电致发光装置,包括第一基板、第二基板以及设置在所述第一基板与所述第二基板之间的若干发光单元,所述发光单元包括第一电极层、第二电极层以及设置在所述第一电极层与所述第二电极层之间的有机发光层,所述第一电极层置于所述第一基板一侧,所述第二电极层置于所述第二基板一侧,其特征在于,
对应各所述发光单元的非发光区域,还依次层叠设置有用于吸收反射光线的吸光层与用于降低所述第二电极层的方阻值的导电层,所述导电层靠近所述第二电极层设置,所述吸光层和/或导电层构造为使得所述第一电极层部分区域抬高并且与所述第一基板电连接;
所述吸光层和/或所述导电层为连续网状或散布型点阵状;
所述第一基板为薄膜晶体管阵列基板。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光装置,其特征在于,所述吸光层的厚度为100nm~5000nm,所述导电层的厚度为50nm~500nm。
3.根据权利要求2所述的有机电致发光装置,其特征在于,所述吸光层的透过率为1%~15%。
4.根据权利要求2所述的有机电致发光装置,其特征在于,所述导电层的方阻值为10Ω/□~100Ω/□。
5.根据权利要求1-4任一项所述的有机电致发光装置,其特征在于,所述导电层为石墨烯层。
6.一种权利要求1-5任一项所述的有机电致发光装置的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、在第二基板上依次形成吸光层与导电层;
S2、在所述第二基板上形成覆盖所述吸光层和所述导电层的若干发光单元,所述发光单元包括依次层叠设置的第一电极层、有机发光层和第二电极层,所述第二电极层靠近所述导电层设置,所述吸光层与所述导电层对应各所述发光单元的非发光区域;
S3、在所述发光单元上设置第一基板,进行器件封装。
7.根据权利要求6所述的有机电致发光装置的制备方法,其特征在于,步骤S1中所述的吸光层通过涂布、曝光和刻蚀工艺制备。
8.根据权利要求6所述的有机电致发光装置的制备方法,其特征在于,所述第一基板为薄膜晶体管阵列基板,每个所述发光单元中第一电极层与所述第一基板中的电连接层电连接。
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