[发明专利]一种高发射率陶瓷涂层的制备方法

权利要求书

1.一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述方法步骤如下：

(1)以NiO、Cr₂O₃、MnO₂、TiO₂为原料，将原料混合均匀；

(2)将步骤(1)混和均匀后的粉末置于坩埚中，在1100～1200℃进行高温焙烧，保温时间为4～6小时，冷却方式采用随炉冷，获得粉体材料；

(3)将焙烧后的粉体材料放入球磨罐中，加入分散剂和粘结剂，以氧化锆颗粒作为球磨介质进行球磨，制备浆料；其中，以粉体材料、分散剂和粘结剂的总质量为100％计，粉体材料含量为40～50wt％，分散剂含量为49.75～59.75wt％，粘结剂含量为0.25wt％；

(4)将球磨得到的浆料送入喷雾干燥塔中进行喷雾干燥，得到团聚粉末，并对团聚粉末过筛，得到粒径为20～80μm的粉末；

(5)将步骤(4)过筛后得到的粉末进行热处理，以去除残留的粘结剂，备用；

(6)对不锈钢基体进行吹砂和预热；

(7)采用等离子喷涂的方法，将NiCoCrAlY合金粉末喷涂到不锈钢基体上制备粘结层；

(8)采用等离子喷涂的方法，将步骤(5)热处理后的粉末喷涂到在粘结层上制备陶瓷涂层，即所述的高发射率陶瓷涂层。

2.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(1)中的原料混合为将原料放入混料机种进行搅拌混合，其中搅拌转速为120r/min，搅拌时间为2～3min。

3.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(1)以原料的总质量为100计，其中NiO、Cr₂O₃、MnO₂、TiO₂四种原料含量如下：

4.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)焙烧的升温速率为5～6℃/分钟。

5.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(3)中球磨转速为400r/min，球磨时间为6～8小时；分散剂为去离子水，粘结剂为聚乙烯醇。

6.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述喷雾干燥采用蠕动泵将浆料从喷雾干燥塔的底部送到顶部的雾化盘中；喷雾干燥塔的进风口温度为210～220℃，出风口温度为85～95℃，蠕动泵频率为40Hz，雾化盘频率为35Hz。

7.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(5)的热处理工艺为，以2～3℃/min的速率升温至500～600℃，保温3～4小时；继续以5～6℃/min的速率升温至1000～1100℃，保温2～3小时，然后随炉冷却。

8.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(7)的等离子喷涂工艺为，喷涂距离70～80mm，电流600～700A，主气流量80～120L/min，辅气流量8～12L/min，载气流量8～12L/min，送粉量2～4rpm；主气和载气均为氩气，辅气为氦气。

9.根据权利要求1所述的一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，步骤(8)的等离子喷涂工艺为，喷涂距离70～80mm，电流800～900A，主气流量80～120L/min，辅气流量20～25L/min，载气流量8～12L/min，送粉量4～6rpm；主气和载气均为氩气，辅气为氦气。