[发明专利]一种自清洗喷嘴在审

专利信息
申请号: 201410656829.7 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN105665157A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 高明安;王学军;刘建;邵玉金 申请(专利权)人: 扬州市业云冶金设备厂
主分类号: B05B1/00 分类号: B05B1/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 奚衡宝
地址: 225200 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洗 喷嘴
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种自清洗喷嘴,属于喷嘴技术领域。

背景技术

喷嘴在使用过程中,由于输送介质内存在杂质,因此输送完毕后如果不及时的对喷嘴进行清洗,时间一长会造成喷头的堵塞,其一杂质的不断冲击会造成喷头的损坏,其二其喷射压力也会因为杂质的阻塞降低,不能满足工作需要。

发明内容

本发明针对上述缺陷,目的在于提供一种结构简单、能对喷嘴进行自清洗的一种自清洗喷嘴。

为此本发明的技术方案是:本发明包括固定设置的喷嘴体(1),喷嘴体(1)前端内部设可相对喷嘴体(1)上下移动的下喷头(2)以及和喷嘴体(1)固连的上喷头(3);所述上喷头(3)和下喷头(2)之间形成液体喷射的空间(4),喷嘴体(1)内部设有防止下喷头(2)过运动的挡块(5)。

所述喷嘴体(1)内设有向内凸出的台阶(6),所述下喷头(2)下部设有凸出下喷头(2)和下喷头(2)一体设置的挡环(7),所述台阶(6)和挡环(7)之间设弹簧(8)。

所述下喷头(2)和喷嘴体(1)的接合部设导轨导槽结构。

本发明的优点是:1)本发明喷头上下设置,介质通过上下喷头的间隙处喷射而出,通过调整上下喷头的介质造成喷射压力,本发明设有防止下喷头过运动的挡块,这样避免可下喷头的过运动造成其不能复位的缺陷;2)本发明通过弹簧的存在使下喷头受到冲击时得到缓冲,这样避免下喷头运动过快因冲击力过大造成下喷头的损伤;3)本发明在下喷头和喷嘴体的结合部设导轨导槽结构,这样下喷头运动较为平稳,和喷嘴体之间的阻力不会过大,降低了两者之间的磨损,提高了使用寿命;4)本发明通过下喷头的向下运动,使上下喷头之间形成较大间隙,从而给自清洗造成了工作环境,其结构简单、使用效果好。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图中1为喷嘴体、2为下喷头、3为上喷头、4为空间、5为挡块、6为台阶、7为挡环、8为弹簧。

具体实施方式

本发明包括固定设置的喷嘴体1,喷嘴体1前端内部设可相对喷嘴体1上下移动的下喷头2以及和喷嘴体1固连的上喷头3;所述上喷头3和下喷头2之间形成液体喷射的空间4,喷嘴体1内部设有防止下喷头2过运动的挡块5。

所述喷嘴体1内设有向内凸出的台阶6,所述下喷头2下部设有凸出下喷2和下喷头2一体设置的挡环7,所述台阶6和挡环7之间设弹簧8。

所述下喷头2和喷嘴体1的接合部设导轨导槽结构。

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