[发明专利]一种用于薄膜电容外观缺陷检测的图像处理方法有效

专利信息
申请号: 201410659951.X 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN104359920A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 杨宇翔;高明煜;刘秀;严志超;曾毓;黄继业;何志伟 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G06T7/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 薄膜 电容 外观 缺陷 检测 图像 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于图像处理领域,具体涉及一种用于薄膜电容外观缺陷检测的图像处理方法。

背景技术

随着工业信息化不断地发展,电容作为电子设备中大量使用的电子元件之一,需求也不断提升。生产商在制造薄膜电容过程中,电容表面大量出现凹凸不平、毛刺、留白、边缘突起等现象。然而,我国目前的无损检测、监测技术和检测仪器无法满足电容表面缺陷检测中的精度、实时和自动化等特殊要求。在实际工业生产过程中,由于技术条件的限制,电容表面检测基本停留在人工目测的水平上,作为生产工艺中的重要一环,其检测过程是单调重复、枯燥乏味的。不仅工人劳动强度大,而且生产效率低。人工检测方法由于受限与人眼视觉灵敏度、个体主观判断等因素的影响,通常无法准确可靠地捕获缺陷信息,这样将很容易产生大量的漏检和误检。检测者由于检查缺陷项目多,长时间地进行重复作业容易产生视觉疲劳而导致错误率上升,导致检测结果的可靠性也会降低。因此研究出一种适用薄膜电容外观缺陷检测图像处理方法,将其应用在生产流水线上,从而实现自动化检测,可以进一步提高产品质量,降低生产成本,具有重要的工程实际意义。

发明内容

本发明的目的就是为了克服人工检测的诸多不足,从而提高电容生产效率,提出一种用于薄膜电容外观缺陷检测的图像处理方法,可快速检测出各种缺陷。本发明的薄膜电容外观缺陷检测方法主要由目标前景提取、形状检测和梯度检测组成。

用f(x,y)代表采集到的大小为M×N的电容图像,用f1(x,y)、f2(x,y)、f3(x,y)分别表示f(x,y)的R、G、B通道图像;具体步骤:

步骤(1):根据前景电容和背景在R、G、B通道上的差异,将未超过阈值的点赋值成黑点,从而分割出目标前景。具体计算公式如下:

f(x,y)=0iff1(x,y)<T1orf2(x,y)<T2orf3(x,y)<T3f(x,y)elae]]>

其中T1,T2,T3分别为R、G、B通道的颜色阈值。

步骤(2):将f1(x,y)同一行上的值相加,得到各行的和向量G(x),然后进行如下操作:

①将i从0开始递增到M,若出现G(i)大于阈值η,则标记此时的i为目标电容的上边界x0,跳至下一步骤;反之i继续递增,继续判断G(i)。

②将i从x0开始递增到M,若出现G(i)小于阈值η,则标记此时的i为目标电容的下边界x1;反之i继续递增,继续判断G(i)。

步骤(3):将f1(x,y)的同一列的值相加得到各列的和向量G(y),然后进行如下操作:

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