[发明专利]燃煤套筒竖窑喷吹清堵系统有效

专利信息
申请号: 201410668706.5 申请日: 2014-11-20
公开(公告)号: CN104384148A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 寿庆亮;王海波;赵宝海;王洪涛;杨耕桃;白城 申请(专利权)人: 中冶焦耐工程技术有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02
代理公司: 鞍山嘉讯科技专利事务所 21224 代理人: 张群
地址: 116085 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 燃煤 套筒 竖窑喷吹清堵 系统
【说明书】:

技术领域

本发明涉及燃煤套筒竖窑,特别涉及燃煤套筒竖窑喷吹清堵系统。

背景技术

套筒竖窑是用于煅烧原料的工艺设备,具有独特的结构和优越的技术性能。套筒窑燃烧室设置分上、下两层,每层沿窑体圆周均匀分布,每个燃烧室与内筒之间均由耐火砖砌筑而成的拱桥相连。如图1所示,物料12在拱桥14下部形成V型料面15,煤粉在拱桥14与料面15形成的空间内燃烧。由于煤粉燃烧的灰分容易在料面上聚集,与原料中的杂质形成低共熔物,在料面上发生板结,使物料不能顺利下落,阻挡气流顺畅通过,不利于窑的各项技术指标的控制,严重影响正常生产。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种燃煤套筒竖窑喷吹清堵系统,降低拱桥下部发生堵料的可能性,保证窑炉的稳定运行。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案实现:

燃煤套筒竖窑喷吹清堵系统,包括压缩空气储罐,压缩空气储罐通过管路与各个喷吹清堵单元相连;所述喷吹清堵单元设置在套筒竖窑每个烧嘴燃烧室的下部,所述喷吹清堵单元包括空气炮及耐热扩张喷嘴,空气炮紧邻烧嘴燃烧室下部布置,通过支架固定在窑壳上,耐热扩张喷嘴一端与空气炮出口通过法兰连接,另一端伸入窑体内部,耐热扩张喷嘴出口端与窑衬内壁表面平齐并与物料接触,耐热扩张喷嘴周围采用耐火浇注料浇注,并与窑壳焊接固定,耐热扩张喷嘴喷出高压气流冲击料面,击碎料面板结,使物料恢复流动;

所述的压缩空气储罐外部连接气源。

所述的耐热扩张喷嘴出口采用防堵设计,防止物料进入喷嘴。

所述的喷吹清堵单元喷出气体压力可调。

喷吹清堵系统喷吹操作可以实现远程控制和就地控制。

上述喷吹清堵系统原理:

通过空气炮和扩张喷嘴的共同作用,能瞬间将空气压力能转变成空气射流动力能,产生强大的冲击力,高速冲击物料表面,这种突然释放的膨胀冲击波,击碎料面板结,使物料恢复流动。同时由于喷嘴出口完全被物料覆盖,可以避免高速气流对窑衬耐材的直接冲击。空气炮间歇工作,鼓入的空气量较小,不会对窑内气氛产生显著影响。

与现有的技术相比,本发明的有益效果是:

本发明结构简单合理,安装拆卸方便,可以有效解决燃煤套筒竖窑拱桥下部堵料问题。喷吹气流直接作用于料面,清堵效率高,不会对窑炉内衬造成冲击,安全可靠。空气炮间歇工作,每次释放的压缩空气量较小,能耗低。本发明投资小、运行成本低、维护简单,提高石灰窑运行稳定性,提高作业率,减少检修停窑次数,可以创造可观的经济效益。

附图说明

图1为燃煤套筒竖窑拱桥下部料面示意图。

图2为本发明结构示意图。

图3为单个喷吹清堵单元结构示意图。

图中:1-压缩空气储罐 2-外部气源管线 3-上部燃烧室喷吹清堵装置 4-下部燃烧室喷吹清堵装置 5-空气炮 6-耐热扩张喷嘴 7-支架 8-窑壳 9-窑衬内壁 10-烧嘴燃烧室 11-耐火浇注料 12-物料 13-气源接口 14-拱桥 15-拱桥下部料面

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式进一步说明:

如图2、图3所示,燃煤套筒竖窑喷吹清堵系统,包括压缩空气储罐1,压缩空气储罐1通过外部气源管线与气源连接。压缩空气储罐1通过气源接口13与各个喷吹清堵单元相连;喷吹清堵单元设置在套筒竖窑每个烧嘴燃烧室10的下部,上部燃烧室对应的喷吹清堵单元为上部燃烧室喷吹清堵装置3,下部燃烧室对应的喷吹清堵单元为下部燃烧室喷吹清堵装置4。

喷吹清堵单元包括空气炮5及耐热扩张喷嘴6,空气炮5紧邻烧嘴燃烧室10下部布置,通过支架7固定在窑壳8上,耐热扩张喷嘴6一端与空气炮5出口通过法兰连接,另一端伸入窑体内部,耐热扩张喷嘴6出口端与窑衬内壁9表面平齐并与物料12接触,耐热扩张喷嘴6为铸造件,具有良好的热稳定性,采用防堵设计,确保正常工作。耐热扩张喷嘴6周围采用耐火浇注料11浇注,并与窑壳8焊接固定。

套筒窑生产时,喷嘴出口埋在物料中,耐热扩张喷嘴喷出高速气流冲击料面,击碎料面板结,使物料恢复流动。喷吹系统的操作可以是自动控制或间歇式人工控制。即可以通过远程自动控制,每个烧嘴的喷吹清堵单元按顺序逐个工作,每隔一定时间喷吹一次。也可以现场或远程对每个单元进行手动操作。生产过程中,可以根据实际使用情况调整高速气体进入喷嘴的压力,获得最佳的使用效果。

上面所述仅是本发明的基本原理,并非对本发明作任何限制,凡是依据本发明对其进行等同变化和修饰,均在本专利技术保护方案的范畴之内。

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