[发明专利]一种基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器及其制备方法在审
申请号: | 201410674373.7 | 申请日: | 2014-11-21 |
公开(公告)号: | CN104359561A | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 林媛;黄振龙;高敏;伍博;潘泰松 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01J5/22 | 分类号: | G01J5/22 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 李明光 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 纳米 阵列 柔性 红外传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器,包括衬底和位于衬底之上的红外敏感材料,所述红外敏感材料为P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列形成的P-N结,所述P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列上均设置有电极。
2.根据权利要求1所述的基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器,其特征在于,所述衬底为聚甲基丙烯酸甲酯,所述P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列上设置的电极为银电极,通过导电银浆固化得到。
3.一种基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器的制备方法,包括以下步骤:
步骤1:配制质量浓度为0.08g/mL的聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液;
步骤2:采用浮动催化化学气相沉积法分别制备P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列;
步骤3:在步骤2得到的带P型碳纳米管阵列的基片上滴步骤1配制的聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液至全部覆盖基片止,放入烘箱中烘干,待聚甲基丙烯酸甲酯凝固后,将其从基片上剥离,得到带P型碳纳米管阵列的聚甲基丙烯酸甲酯,然后将带P型碳纳米管阵列的聚甲基丙烯酸甲酯紧密贴合在步骤2得到的带N型碳纳米管阵列的基片上以保证P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列间无缝隙,滴步骤1配制的聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液至全部覆盖基片止,放入烘箱中烘干,待聚甲基丙烯酸甲酯凝固后,将其从基片上剥离,即在聚甲基丙烯酸甲酯上得到层叠的P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列;
步骤4:在步骤3得到的P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列上制备电极。
4.根据权利要求3所述的基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器的制备方法,其特征在于,步骤3中所述将滴有聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液烘干时的温度为150℃,烘干时间为20min;步骤4中所述在P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列上制备的电极为银电极,通过导电银浆固化得到。
5.一种基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器的制备方法,包括以下步骤:
步骤1:配制质量浓度为0.08g/mL的聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液;
步骤2:采用浮动催化化学气相沉积法分别制备P型碳纳米管阵列和N型碳纳米管阵列;
步骤3:在步骤2得到的带N型碳纳米管阵列的基片上滴步骤1配制的聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液至全部覆盖基片止,放入烘箱中烘干,待聚甲基丙烯酸甲酯凝固后,将其从基片上剥离,得到带N型碳纳米管阵列的聚甲基丙烯酸甲酯,然后将带N型碳纳米管阵列的聚甲基丙烯酸甲酯紧密贴合在步骤2得到的带P型碳纳米管阵列的基片上以保证N型碳纳米管阵列和P型碳纳米管阵列间无缝隙,滴步骤1配制的聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液至全部覆盖基片止,放入烘箱中烘干,待聚甲基丙烯酸甲酯凝固后,将其从基片上剥离,即在聚甲基丙烯酸甲酯上得到层叠的N型碳纳米管阵列和P型碳纳米管阵列;
步骤4:在步骤3得到的N型碳纳米管阵列和P型碳纳米管阵列上制备电极。
6.根据权利要求5所述的基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器的制备方法,其特征在于,步骤3中所述将滴有聚甲基丙烯酸甲酯的苯甲醚溶液烘干时的温度为150℃,烘干时间为20min;步骤4中所述在N型碳纳米管阵列和P型碳纳米管阵列上制备的电极为银电极,通过导电银浆固化得到。
7.根据权利要求3至6中任一项所述的基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器的制备方法,其特征在于,步骤2中所述P型碳纳米管阵列的制备过程为:以二茂铁为溶质,甲苯为溶剂,配制质量分数为3%的二茂铁的甲苯溶液作为前驱液;将二氧化硅基片置于管式炉内,在氩气气氛下将管式炉内温度加热到850℃,然后以10mL/h的速率注入上述配制的前驱液,在850℃、氩气和氢气的混合气体气氛下热处理30min,使碳纳米管在二氧化硅基片上生长;热处理结束后,在氩气气氛下随炉自然冷却至室温,即在二氧化硅基片上得到P型碳纳米管阵列。
8.根据权利要求3至6中任一项所述的基于碳纳米管阵列的柔性红外传感器的制备方法,其特征在于,步骤2中所述N型碳纳米管阵列的制备过程为:以二茂铁为溶质,乙腈和乙醇混合溶液为溶剂,配制质量分数为2%的二茂铁溶液作为前驱液,其中乙腈和乙醇的质量比为16:1;将二氧化硅基片置于管式炉内,在氩气气氛下将管式炉内温度加热到850℃,然后以8mL/h的速率注入上述配制的前驱液,在850℃、氩气和氢气的混合气体气氛下热处理30min,使碳纳米管在二氧化硅基片上生长;热处理结束后,在氩气气氛下随炉自然冷却至室温,即在二氧化硅基片上得到N型碳纳米管阵列。
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