[发明专利]一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法

说明书

技术领域

本发明属于植物组织培养领域，特别涉及一种在黄瓜大孢子培养过程中，克服胚状体分化成再生植株后发生花打顶的方法。

背景技术

黄瓜大孢子培养通过诱导黄瓜大孢子出胚，可以快速产生纯合的育种新材料(纯系)，缩短了育种年限，提高育种效率，还可用作遗传转化的优良受体材料。通过黄瓜大孢子培养成功获得的胚状体，要转移到再生培养基中进行植株的再生，而在植株再生过程中由于培养基的成份和外界培养环境条件等因素，会导致很大比例的再生小植株发生花打顶的生理障碍(小植株在再生培养基上持续大量开花直至养分耗尽最后凋亡)，使得再生小植株不能成功的发育成健康的植株，花打顶现象严重影响黄瓜大孢子培养的植株再生率。

因此，在黄瓜大孢子培养的科研和实践中，需要找到一种有效地克服再生植株发生花打顶生理障碍的培养方法。

发明内容

本发明提供一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法，该方法通过将发生花打顶的再生植株移至恢复培养基进行恢复培养，并控制所述恢复培养的光照条件、温度条件、湿度条件，将所述发生花打顶的再生植株恢复为正常再生植株。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法，通过将发生花打顶现象的再生植株移至恢复培养基进行恢复培养，并控制所述恢复培养的光照条件、温度条件、湿度条件，将所述发生花打顶的再生植株恢复为正常再生植株；

进一步地，所述恢复培养基为，以MS基本培养基为基础，添加赤霉素0.3-1.0mg/L，优选为0.5mg/L；

进一步地，所述光照条件为：白天光照强为度6000LUX-12000LUX，优选为9000LUX，光照时间12-18h，优选为16h；夜晚光照强度为0LUX，光照时间为6h-12h，优选为8h；

进一步地，所述温度条件为：白天温度为25-30℃，优选温度28℃；夜晚温度为18-25℃，优选为20℃；

进一步地，所述湿度条件为：白天空气湿度为30％-70％，优选为50％；夜晚空气为60％-90％，优选为85％。

进一步地，所述黄瓜的品种为北京102、中农26、津优1中的一种或几种。

相比现有技术，本发明具有如下有益效果：

1、本发明通过添加有赤霉素(GA)的恢复培养基，与光照条件、温度条件、湿度条件协同作用，可以使发生花打顶的小植株打破花打顶生理障碍，培养30天后花打顶植株转化为正常植株的比率达到20-70.3％，大大提供黄瓜大孢子培养的植株再生率。

2、本发明操作简便易行，成本低廉，适合在黄瓜大孢子培养中广泛推广使用，克服花打顶生理障碍。

附图说明

图1为实施例2中发生花打顶生理障碍的再生植株的照片。

图2为实施例2中培养30天后花打顶植株转化为健康植株的照片。

具体实施方式

本发明提供一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法，该方法通过将发生花打顶的再生植株移至恢复培养基进行恢复培养，并控制所述恢复培养的光照条件、温度条件、湿度条件，将所述发生花打顶的再生植株恢复为正常再生植株。

该方法包括如下步骤：

步骤一、更换培养基：在无菌条件下，将发生花打顶的再生植株移至恢复培养基，得到更换完培养基的再生植株。

上述发生花打顶的再生植株是通过以下方法获得的：

取品种为北京102、或中农26、或津优1的黄瓜植株上开花前1d的子房作为外植体；将该外植体清洗后，在超净工作台上用75％的乙醇溶液表面消毒30s，再用2.5％的NAClO溶液灭菌15min，再用无菌水清洗3-4遍，每次1min；再将子房横切为1mm厚度的切片，先接种到诱导培养基(MS+3％蔗糖+1％琼脂+0.04mg/L TDZ)，进行35℃热激处理，时间为2d；完成热激处理5-7d后，可观察到子房薄片上有球型胚状物的突起，将该子房薄片转移到分化培养基(MS+3％蔗糖+1％琼脂+0.2mg/L NAA+0.8mg/L 6-BA)，室温下进行胚的分化和发育，得到发育成熟的胚状体；将该发育成熟的胚状体转移到再生培养基(MS+3％蔗糖+0.8％琼脂，或MS+3％蔗糖+0.8％琼脂+0.05-0.1mg/L 6-BA)上进行植株再生培养，得到再生植株，该再生培养的环境为：白天光强3000LUX左右，16小时光照处理，夜晚光强0LUX，8小时处理；培养室温度为恒温25℃。