[发明专利]一种金属离子掺杂的{001}面暴露的TiO2纳米片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201410683243.X 申请日: 2014-11-24
公开(公告)号: CN104465101A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 匡代彬;陈白雪;万泉;李龙斌;郭新东 申请(专利权)人: 中山大学;广州质量监督检测研究院
主分类号: H01G9/042 分类号: H01G9/042;C01G23/08;B82Y40/00
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 华辉
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 金属 离子 掺杂 001 暴露 tio sub 纳米 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于二氧化钛纳米材料的制备领域,具体涉及一种金属离子掺杂的高活性{001}面暴露的TiO2纳米片的制备方法及其光电应用。

背景技术

TiO2作为一种常见的光阳极材料,具备成本低、耐腐蚀、安全无毒、制备工艺简单等优点,被广泛应用于染料敏化与量子点敏化太阳电池领域,并发挥着负载染料/量子点,接受并运输光生电子,提供电解质扩散通道的作用。通过优化TiO2光阳极的结构的方式,可起到提高光电子注入效率,加快光电子在TiO2上的传输速率,以及抑制界面复合反应的效果,从而实现有效提高太阳电池的光电转换效率的目的。

{001}面暴露占优的锐钛矿晶型的TiO2,不仅受到{001}面表面能最高的影响({001}(0.90J/m2)>{100}(0.53J/m2)>{101}(0.44J/m2)),而且由于{001}面暴露率越高,TiO2纳米晶的比表面积越大,负载量子点与光散射能力也会越强,进而实现更高的光电转换效率。金属离子掺杂的TiO2可调控其带隙、平带电位,从而提高其性能。Nb作为一种过渡金属元素,掺杂可使得TiO2的平带电位正移,提高光生电子注入效率,同时又能将部分Ti4+还原为Ti3+,从而在Ti的3d轨道增加一个电子,提升了电子浓度,减小了TiO2之间的电子传递能量壁垒,提高了电子传输速率,最终达到增加TiO2光阳极的电子收集效率的结果。而Nd作为一种镧系元素,具备增强界面电子转移速率的作用,通过金属Nd的掺杂,可以在原有的TiO2的导带与价带之间中引入新的杂质能级,延长TiO2对可见光的吸收,起到提高光生电子注入效率的作用。Mg的掺杂使得TiO2的平带电位负移,进而起到提升开路电压的作用。目前,国际上对Nb、Mg这二种金属掺杂的TiO2的文献报道均集中在染料敏化太阳电池领域,而对Nd掺杂的TiO2则之探讨了其在光催化领域的应用。但文献上所报道的掺杂都是针对普通的二氧化钛颗粒,未见金属离子掺杂高活性{001}面TiO2纳米片材料的报道。

近年来,高活性{001}面暴露的TiO2纳米片已呈现出非常诱人的光催化和光电性能。因而合成各种金属掺杂的高活性{001}面TiO2纳米片材料并探究其在量子点敏化太阳电池、染料敏化太阳电池、钙钛矿太阳电池、光催化及光电催化中的应用有重要意义。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种具有良好光电化学活性的金属离子掺杂的{001}面暴露的TiO2纳米片。

本发明的目的之二在于提供一种简单快速重现性好的金属离子掺杂的{001}面暴露的TiO2纳米片的制备方法。

为解决上述技术问题,本发明的技术方案为:

一种金属离子掺杂的{001}面暴露的TiO2纳米片的制备方法,包括如下步骤:

(1)常温下,在钛源中加入金属盐,充分搅拌得到混合溶液;

(2)向上述混合溶液中加入氢氟酸,进行水热反应;

(3)对产物进行分离、洗涤、干燥、即得到金属离子掺杂的{001}面暴露的TiO2纳米片。

进一步地,所述步骤(1)中所述钛源为钛酸丁酯、钛酸乙酯或四异丙醇钛。

进一步地,所述步骤(1)中所述金属盐为过渡金属、稀土金属或碱土金属的盐酸盐、硝酸盐、醋酸盐。

进一步地,所述步骤(1)中所述金属盐直接使用Nb,Nd,Mg的盐酸盐、硝酸盐、醋酸盐,或由该三种元素所对应的金属氧化物或金属单质通过同硝酸,氢氟酸或过氧化氢等经过氧化还原反应制备而得。

进一步地,所述步骤(1)中所述金属盐同钛源的物质的量的比在1:1000~3:10之间。

进一步地,所述步骤(2)中使用的氢氟酸质量百分比浓度为40%~50%,所使用氢氟酸同钛源的体积比为1:5~1:50。

进一步地,所述步骤(2)中水热反应的反应温度为100℃~300℃,反应时间为6h~96h。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学;广州质量监督检测研究院,未经中山大学;广州质量监督检测研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410683243.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top