[发明专利]液晶显示装置和三维显示装置在审

专利信息
申请号: 201410683451.X 申请日: 2014-11-24
公开(公告)号: CN104656322A 公开(公告)日: 2015-05-27
发明(设计)人: 中込优;小松弘明;前出优次;今山宽隆 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1337;G02F1/1335;G02B27/22
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;李文屿
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 三维
【说明书】:

技术领域

本发明涉及显示装置,特别涉及使用了视差屏障面板的三维图像显示装置,所述视差屏障面板是基于在水平方向上加大了视场角的液晶而形成的。

背景技术

作为不使用眼镜的三维图像显示方法,已知有视差屏障方式。视差屏障方式是指:在被称为视差屏障面板的、具有多个纵向的微细狭缝的板的后方,设置将来自右眼的视野的图像和来自左眼的视野的图像沿纵向切割成长条状并交替排列而成的图像,经由视差屏障将该图像显示成三维图像的方法。

专利文献1中记载了通过使用液晶形成视差屏障面板,从而可显示二维图像和三维图像双方的三维图像显示装置的结构。

在专利文献2中记载了通过使用像素电极和公共电极的延伸方向不同的第一像素和第二像素从而使视场角特性均匀的基于IPS(In Plane Swithcing:平面转换)方式的液晶显示装置。在专利文献2中,由于像素电极和公共电极的延伸方向与画面垂直方向或画面水平方向不同,所以像素的形状不成为长方形而成为平行四边形。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:特开平3-119889号公报

专利文献2:日本特开2002-122876号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

作为三维图像显示方式,存在使用专用眼镜的方式和不使用专用眼镜的方式。视差屏障方式利用形成于视差屏障面板的屏障图案将显示于显示装置的图像空间分割为左眼用图案和右眼用图案而进行立体显示,无需专用眼镜。

使用了液晶的视差屏障面板具有能够根据需要容易地切换二维图像和三维图像的优点。即,当向视差屏障面板施加屏障信号而形成屏障图案时能够进行三维显示,在不向视差屏障面板施加屏障信号的情况下能够进行二维显示。

图20是表示视差屏障方式的三维图像显示原理的剖视图。利用形成于屏障图案600的屏障区域610和开口区域620,右眼RE仅识别形成于显示装置800的右眼用像素R,左眼LE仅识别左眼用像素L,由此人们能够识别三维图像。

图21是本发明的三维图像装置的剖视示意图。图21所示的装置构成为:使用液晶视差屏障面板1000,能够将由液晶显示面板3000形成的图像视觉识别为三维图像。液晶视差屏障面板(以后称为视差屏障面板)1000与液晶显示面板3000通过透明粘合部件2000粘接到一起。由于液晶显示面板自身不发光,所以在液晶显示面板3000的背面配置有背光源4000。

液晶显示装置的视场角特性是一个问题。IPS方式液晶显示装置通过使液晶分子在与衬底的主面平行的方向上旋转而控制像素的透射,所以具有优异的视场角特性。IPS方式也有多种,图22是现在广泛使用的IPS方式液晶显示面板的剖视图。简单来说,该方式是在形成为平面状的像素电极112之上隔着层间绝缘膜111配置具有狭缝的公共电极110。而且,当在像素电极112与公共电极110之间施加电压时,电力线从公共电极110经由液晶层向像素电极112侧延伸,利用该电力线使液晶分子301旋转,从而按像素控制透射率而形成图像。

在图22中,在玻璃衬底100之上,通过CVD(Chemical Vapor Deposition:化学气相沉积)形成由SiN构成的第一基底膜101和由SiO2构成的第二基底膜102。第一基底膜101和第二基底膜102的作用是防止来自玻璃衬底100的杂质污染半导体层103。

在第二基底膜102之上形成半导体层103。该半导体层103是在第二基底膜102上通过CVD形成a-Si膜,并对其进行激光退火而转换成多晶硅膜的半导体层。通过光刻而对该多晶硅膜进行图案形成。

在半导体膜103之上形成栅极绝缘膜104。该栅极绝缘膜104是基于TEOS(四乙氧基硅烷)的SiO2膜。该膜也通过CVD形成。在其上形成栅电极105。栅电极105与扫描信号线同层并同时形成。栅电极105例如由MoW膜形成。当需要减小栅极布线105的电阻时,使用Al合金。

覆盖栅电极105或栅极布线地利用SiO2形成层间绝缘膜106。第一层间绝缘膜106用于使栅极布线105与源电极107绝缘。在第一层间绝缘膜106和栅极绝缘膜104上形成用于将半导体层103的源部S与源电极107连接的通孔。在第一层间绝缘膜106之上形成源电极107。源电极107经由通孔与像素电极112连接。在图22中,源电极107宽广地形成,并成为覆盖TFT的形状。另一方面,TFT的漏极D在未图示的部分与漏电极连接。

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