[发明专利]一种气相沉淀设备用喷淋头清洁装置

权利要求书

1.一种气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，用于清洗喷淋头表面的覆盖层，所述气相沉淀设备包括加热系统、反应室，设置于所述反应室内的旋转托盘，向所述反应室内输送气态原材料的喷淋头，其特征在于，所述清洁装置包括可拆卸地设置于所述旋转托盘上的清洁部件，所述清洁部件随旋转托盘同步转动，且清洁部件的旋转半径大于或等于所述喷淋头的半径；

所述清洁装置还包括驱动旋转托盘运转的转动机构，以及驱动旋转托盘上下移动使得清洁部件与喷淋头表面接触的升降机构，清洁时，升降机构带动旋转托盘上移与喷淋头接触，后驱动旋转托盘带动清洁部件清洁喷淋头。

2.如权利要求1所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述清洁部件包括连接支架、固定设置于所述连接支架上的刷头、以及位于所述刷头上的刷毛。

3.如权利要求2所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述刷毛采用高低刷毛间隔排列方式设置。

4.如权利要求2所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述连接支架与刷头均采用耐高温的聚四氟乙烯材质。

5.如权利要求2所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述连接支架与刷头一体加工成型。

6.如权利要求2所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述连接支架为环形结构，所述连接支架与所述旋转托盘卡接固定，所述连接支架与所述旋转托盘上分别设置有相互匹配的卡口与卡扣。

7.如权利要求2所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述刷头为以所述连接支架中心为起点呈辐向分布的多个辐条。

8.如权利要求7所述的气相沉淀设备用喷淋头清洁装置，其特征在于，所述辐条为直线型结构或曲线型结构或折线型结构。