[发明专利]喷嘴有效

专利信息
申请号: 201410690909.4 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN104401998A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 孙强;万烨;严大洲;汤传斌;乔兵超 申请(专利权)人: 中国恩菲工程技术有限公司
主分类号: C01B33/035 分类号: C01B33/035
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 100038*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种喷嘴。

背景技术

多晶硅生产领域中,还原炉是生产多晶硅的核心设备,主要含有三氯氢硅和氢气的混合气经由混合气喷嘴进入炉腔内,在高温高压下完成反应,生成的硅沉积在硅芯棒上。一般混合气喷嘴的气体速度只能随着气量的变化而变化,在混合气流量较小时喷嘴出口处的流速较小,混合气达不到硅棒顶端,影响炉内热场分布,造成硅棒上端局部温度较高,生成菜花状多晶硅,严重时出现烧流等熔硅现象。

现有技术的喷嘴不能根据气量大小自行调节流速,进而满足多晶硅棒正常生长的问题。尤其是在还原炉启炉初始阶段,混合气气量较小时,原固定喷嘴喷出的气体流速较小,会导致混合气达不到硅芯顶端,而造成硅芯上部温度较高,出现烧流或打火现象,中后期会出现表面粗糙甚至菜花状外观的现象,大大降低了多晶硅的外观品质,不利于产品处理和销售。

发明内容

本发明旨在提供一种根据流体的流量的大小自行调节流速的喷嘴。

为了实现上述目的,本发明提供了一种喷嘴,喷嘴包括:喷嘴本体,喷嘴本体内设置有供流体流通的腔体;浮子,浮子包括浮子本体,浮子本体的外周面与腔体的内周面形成供流体流出的流通间隙;其中,腔体呈锥形,浮子相对于喷嘴本体沿腔体的进口端和腔体的出口端的连线的方向可移动地设置并具有朝向腔体的进口端移动的趋势,浮子沿进口端至出口端的方向移动的过程中流通间隙逐渐增大。

进一步地,腔体为竖直设置,腔体的出口端位于腔体的进口端的上方。

进一步地,喷嘴还包括用于驱动浮子沿腔体的出口端至腔体的进口方向移动的弹性驱动部。

进一步地,浮子还包括与浮子本体同轴设置的锥形导流部,锥形导流部设置在浮子本体的朝向腔体的进口端的一端,锥形导流部的锥形角大于腔体的内周面的锥形角。

进一步地,浮子本体呈圆锥形,浮子本体的锥度与腔体的锥度相同。

进一步地,浮子以其轴心为旋转中心可转动地设置,浮子本体的外周面上设置有多个导流槽,导流槽相对于浮子本体的母线倾斜,多个导流槽的倾斜方向一致。

进一步地,喷嘴还包括与腔体的延伸方向一致的导向件,浮子相对于喷嘴本体沿导向件的延伸方向可移动地设置。

进一步地,喷嘴还包括限位件,限位件与导向件连接,限位件设置在浮子由腔体的进口端向腔体的出口端的方向移动的路径上。

进一步地,导向件为导向管,导向管用于流通部分的流体。

应用本发明的技术方案,喷嘴包括喷嘴本体和浮子,喷嘴本体内设置有供流体流通的腔体,浮子包括浮子本体,浮子本体的外周面与腔体内周面形成供流体流出的流通间隙,其中,腔体呈锥形,浮子相对于喷嘴本体沿腔体的进口端和腔体的出口端的连线的方向可移动地设置并具有朝向所述腔体的进口端移动的趋势,浮子沿进口端至出口端的方向移动的过程中流通间隙逐渐增大。应用本发明的技术方案,当由腔体的进口端进入的流体的流量较大时,浮子在流体的冲击力的作用下沿进口端至出口端的方向移动,流通间隙逐渐增大,有效地减小了流速,当流体的流量较小时流通间隙也较小,有利于保证经流通间隙流出的流体的流速,实现了喷嘴根据流体的流量大小自行调节流速的功能。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:

图1示出了本发明实施例的喷嘴的结构示意图。

附图标记:1、喷嘴本体;11、腔体;2、浮子;21、浮子本体;22、锥形导流部;3、导向件;4、限位件。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

如图1所示,本发明实施例的喷嘴包括喷嘴本体1和浮子2,喷嘴本体1内设置有供流体流通的腔体11。浮子2包括浮子本体21,浮子本体21的外周面与腔体11的内周面形成供流体流出的流通间隙。其中,腔体11呈锥形,浮子2相对于喷嘴本体1沿腔体11的进口端和腔体11的出口端的连线的方向可移动地设置并具有朝向腔体11的进口端移动的趋势,浮子2沿进口端至出口端的方向移动的过程中流通间隙逐渐增大。在腔体11中无流体流通的状态下流通间隙最小。

本实施例中,腔体11为竖直设置,腔体11的出口端位于腔体11的进口端的上方。浮子2在重力的作用下具有向腔体11的进口端运动的趋势。在腔体11中无流体流通的状态下,浮子2位于其移动路径的最下方且流通间隙最小。

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