[发明专利]一种硅料清洗工艺及其设备

权利要求书

1.一种硅料清洗工艺，其特征在于包括以下步骤：

A、将需要清洗的硅料放入离心设备中；

B、启动离心设备使硅料旋转，在硅料旋转的过程中，向离心设备内注入纯水对硅料进行清洗，所述清洗时间为80-120秒，在清洗过程中，所述离心设备的转速为280-300转/分钟，清洗完毕后，停止向硅料喷洒纯水，调整离心设备的转速至305-330转/分钟进行甩干处理，在甩干过程中向硅料通入温度为60-120度的惰性气体，甩干时间为1400-1800秒；

C、将甩干的硅料密封保存。

2.如权利要求1所述的硅料清洗工艺，其特征在于：所述惰性气体为氮气。

3.如权利要求2所述的硅料清洗工艺，其特征在于：所述氮气的温度为100度。

4.如权利要求3所述的硅料清洗工艺，其特征在于：在清洗过程中，所述离心设备的转速为300转/分钟。

5.如权利要求4所述的硅料清洗工艺，其特征在于：在甩干过程中，所述离心设备的转速为310转/分钟。

6.一种硅料清洗设备，其特征在于：包括底板(101)、侧板(102)、盖板(103)组层的壳体(1)，所述壳体(1)内设置有隔板(2)，所述隔板(2)与底板(101)平行设置，所述隔板(2)与侧板(102)盖板(103)共同围成一个封闭的空腔(3)，所述空腔(3)内设置有旋转筒体(4)，所述旋转筒体(4)底部连接有旋转轴(5)，所述旋转轴(5)穿过隔板(2)，旋转轴(5)下端连接有驱动旋转轴(5)转动的驱动电机(6)，所述隔板(2)上设置有排水孔(7)，所述排水孔(7)上连接有排水管(8)，所述排水管(8)上设置有排水截止阀(9)，所述盖板(103)上连接有用于通入惰性气体的进气管(10)与用于通入纯水的进水管(11)，所述进气管(10)上设置有气体加热装置(12)，所述进气管(10)、进水管(11)分别穿过盖板(103)延伸至空腔(3)内，所述进水管(11)上设置有进水截止阀(13)，所述进气管(10)上设置有进气截止阀(14)，所述旋转筒体(4)的侧壁上设置有多个漏水孔(15)。

7.如权利要求6所述的硅料清洗设备，其特征在于：所述气体加热装置(12)包括柱状基体(121)，所述柱状基体(121)内设置有圆柱形的气体加热空腔(122)，所述柱状基体(121)上设置有与气体加热空腔(122)连通的进气口与出气口，所述进气口通过气管与惰性气体源(123)连通，所述出气口与进气管(10)连通，所述柱状基体(121)的表面缠绕有加热丝(124)，所述加热丝(124)连接在电源(125)上。

8.如权利要求7所述的硅料清洗设备，其特征在于：所述加热丝(124)与电源(125)之间设置有温控表(126)，所述气体加热空腔(122)内设置有温度探头(127)，所述温度探头(127)与温控表(126)相连接。

9.如权利要求8所述的硅料清洗设备，其特征在于：所述惰性气体源(123)为氮气。