[发明专利]材料断口表面微观三维形貌干涉检测装置有效
申请号: | 201410697098.0 | 申请日: | 2014-11-27 |
公开(公告)号: | CN104390604B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 邹文栋;王代君;徐章程;肖慧荣;陈春根;朱丽华 | 申请(专利权)人: | 南昌航空大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 江西省专利事务所36100 | 代理人: | 殷勇刚,张静 |
地址: | 330063 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 材料 断口 表面 微观 三维 形貌 干涉 检测 装置 及其 数据处理 方法 | ||
1.一种材料断口表面微观三维形貌干涉检测装置,包括光源系统、分束器、测量臂、参考臂和CCD部件,
所述光源系统,提供照射光束;
分束器,将光源系统发射的光束分成两束,一束通过测量臂照射被测样品表面,另一束通过参考臂射向参考镜;
测量臂,由显微物镜组Ⅰ和位于显微物镜组Ⅰ后部的载样机构组成,
参考臂,由显微物镜组Ⅱ和位于显微物镜组Ⅱ后部的参考镜构成;
测量臂与参考臂相互垂直共轭;
光源系统、分束器、显微物镜组Ⅰ、载样机构、显微物镜组Ⅱ、参考镜和CCD部件同轴依次设置;
光源系统发出一束光束,光束经过分束器分成两束光,其中一束光束为测量光束,测量光束通过测量臂照射在载样机构固定的样品上,并经过样品表面的反射再通过测量臂照射在CCD部件;
另一束光束为参考光束,参考光束通过参考臂照射在参考镜上,并经过参考镜表面的反射再通过参考臂照射在CCD部件;
CCD部件设置在测量光束和参考光束共同显微干涉成像的位置,将图像转为电子图像存储,其特征在于,
所述显微物镜组Ⅱ和参考镜安装在复合微调机构上,所述复合微调机构可以调节显微物镜组Ⅱ和参考镜的空间位置;所述复合微调机构包括上微调块和下微调块,上微调块通过下滑块连接在下微调块上;调节上微调螺钉移动上滑块,并通过紧定螺钉微调上滑块的滑动方向;调节下微调螺钉移动下滑块,并通过紧定螺钉微调下滑块的滑动方向,由此调节上、下滑块的运动同轴性;上微调块通过上滑块连接参考镜座,下微调块通过下滑块连接显微物镜组Ⅱ;
所述显微物镜组Ⅱ和分束器的中间还设有补偿平晶,所述补偿平晶用来平衡测量光束和参考光束的光程差。
2.如权利要求1所述的材料断口表面微观三维形貌干涉检测装置,其特征在于,所述载样机构包括多维载样机构和压电陶瓷,多维载样机构包括底座、横向调整座和旋转固定筒;在多维载样机构的底座上安装有轴向微调旋钮和滑动导轨,横向调整座的底部与滑块连接,通过旋转轴向微调旋钮,控制横向调整座和旋转固定筒一起沿着滑动导轨轴向运动;横向调整座上设有垂直微调旋钮和水平微调旋钮,用于调整被测样品的高度和左右位置;通过定位螺丝将样品固定在旋转固定筒上,通过旋转旋转固定筒360º调节样品的方位。
3.如权利要求2所述的材料断口表面微观三维形貌干涉检测装置,其特征在于,所述载样机构还有微驱动单元,以控制样品的前后微位移移动;所述微驱动单元包括微位移传感器、压电陶瓷和压电陶瓷控制与驱动模块,微位移传感器监控微驱动单元的微位移值,压电陶瓷控制与驱动模块控制施加给压电陶瓷的电压,压电陶瓷为受压产生电压的陶瓷材料,利用其受压产生电压的逆原理,通过施加电压控制压电陶瓷的变形,以控制样品的微位移。
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