[发明专利]一种高强高韧PVC篷盖布在审

专利信息
申请号: 201410702769.8 申请日: 2014-11-29
公开(公告)号: CN105690957A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 刘长青 申请(专利权)人: 江阴东恒新材料科技有限公司
主分类号: B32B27/12 分类号: B32B27/12;B32B27/18;B32B27/30;C08L27/06;C08L23/28;C08L11/00;C08L29/14;C08K5/12;C08K3/22;C08K3/26
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摘要:
搜索关键词: 一种 高强 pvc 盖布
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种高强高韧PVC篷盖布。

背景技术

PVC篷盖布是底布双面涂层PVC糊树脂。与一般PE篷布相比,PVC篷布防雨性远优于PP、PE篷,在篷房、汽车、火车、仓储等领域都有广泛的用途。另外,PVC成本低,来源丰富,无毒,是一种值得推广的膜材料。但是由于PVC光、热稳定差的缺点,PVC篷盖布在使用过程中,特别是天热情况下使用,容易出现老化问题,影响PVC篷盖布的强度。虽然现有的PVC篷盖布的配方中会添加光、热稳定剂以延缓这种老化现象,但是光、热稳定剂的添加量有限,因此对于PVC篷盖布的老化起不到持久的抵抗作用,导致篷盖布的强度被大大削弱。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种高强高韧PVC篷盖布。

为实现本发明的目的,本发明的技术方案是:一种高强高韧PVC篷盖布,其由机织布双面涂敷PVC涂层组成,所述PVC涂层的原料配方按照重量份数包括以下组分:PVC糊树脂80份、氯化聚乙烯10~30份、邻苯二甲酸二辛酯40~85份、钛白粉1~8份、甲壳研磨粉1~35份、橡胶粉1~4份、稳定剂3~6份、粘合剂1~6份。

优选的技术方案是,所述甲壳研磨粉的粒径为5000目以下。

优选的技术方案是,所述橡胶粉为氯丁胶,粒径为2微米以下。

优选的技术方案是,所述粘合剂为乙烯基吡啶系粘合剂或聚乙烯醇缩丁醛粘合剂。

优选的技术方案是,所述PVC涂层的原料配方中还包含抗UV剂0.1~0.8份。

现有技术相比,本发明高强高韧PVC篷盖布在PVC涂层配方中加入了甲壳研磨粉,其可以吸附PVC热分解产生的氯自由基,抑制氯自由基后续引发PVC的分解,从而提高PVC篷盖布的热稳定性,使PVC篷盖布具有持久的强度;另外配方中添加的橡胶粉克服了PVC篷盖布的脆性;所制得的PVC棚布具有高强高韧的特点。

具体实施方式

下面结合实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

实施例1

本发明是一种高强高韧PVC篷盖布,其由机织布双面涂敷PVC涂层组成,所述PVC涂层的原料配方按照重量份数包括以下组分:PVC糊树脂80份、氯化聚乙烯30份、邻苯二甲酸二辛酯40份、钛白粉8份、甲壳研磨粉1份、橡胶粉2份、稳定剂6份、聚乙烯醇缩丁醛粘合剂1份。其中,甲壳研磨粉的粒径为5000目以下,采用蟹壳或虾壳或贝壳研磨粉或它们的混合物;橡胶粉为氯丁胶橡胶粉,粒径为2微米以下。

实施例2

本发明是一种高强高韧PVC篷盖布,其由机织布双面涂敷PVC涂层组成,所述PVC涂层的原料配方按照重量份数包括以下组分:PVC糊树脂80份、氯化聚乙烯10份、邻苯二甲酸二辛酯85份、钛白粉1份、甲壳研磨粉35份、橡胶粉4份、稳定剂3份、抗氧化剂10份、乙烯基吡啶系粘合剂4份。其中,甲壳研磨粉的粒径为5000目以下,采用蟹壳或虾壳或贝壳研磨粉或它们的混合物;橡胶粉为氯丁胶橡胶粉,粒径为2微米以下。

实施例3

本发明是一种高强高韧PVC篷盖布,其由机织布双面涂敷PVC涂层组成,所述PVC涂层的原料配方按照重量份数包括以下组分:PVC糊树脂80份、氯化聚乙烯20份、邻苯二甲酸二辛酯65份、钛白粉4份、甲壳研磨粉20份、橡胶粉3份、稳定剂4份、抗氧化剂5份、乙烯基吡啶系粘合剂4份、抗UV剂0.1份。其中,甲壳研磨粉的粒径为5000目以下,采用蟹壳或虾壳或贝壳研磨粉或它们的混合物;橡胶粉为氯丁胶橡胶粉,粒径为2微米以下。

实施例4

本发明是一种高强高韧PVC篷盖布,其由机织布双面涂敷PVC涂层组成,所述PVC涂层的原料配方按照重量份数包括以下组分:PVC糊树脂80份、氯化聚乙烯25份、邻苯二甲酸二辛酯70份、钛白粉6份、甲壳研磨粉30份、橡胶粉1份、稳定剂3份、抗氧化剂1份、聚乙烯醇缩丁醛粘合剂5份、抗UV剂0.8份。其中,甲壳研磨粉的粒径为5000目以下,采用蟹壳或虾壳或贝壳研磨粉或它们的混合物;橡胶粉为氯丁胶橡胶粉,粒径为2微米以下。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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