[发明专利]用于预测多元拼合靶材制备的薄膜成分的预测方法在审

专利信息
申请号: 201410708998.0 申请日: 2014-11-28
公开(公告)号: CN104715287A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 章嵩;贺志强;涂溶;张联盟;王传彬;沈强 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: G06Q10/04 分类号: G06Q10/04;C23C14/28
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 崔友明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 用于 预测 多元 拼合 制备 薄膜 成分 方法
【权利要求书】:

1.一种用于预测多元拼合靶材制备薄膜的薄膜成分的预测方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)根据薄膜脉冲激光沉积物化模型,推导薄膜产物各成分的的摩尔比x1随激光能量、基板和靶材的距离以及多元拼合靶材中各单元靶材的圆心角之比x2的理论公式;

(2)固定基板和靶材的距离,简化上述理论公式,得到以激光能量和x2为变量的工程公式;然后进行系统实验,选取一系列实验结果,代入到工程公式内,计算方程参数值,由此确定x1随激光能量和x2变化的工程公式;

(3)根据工程公式,在沉积参数确定的情况下,预测薄膜产物的成分,或者根据所需要生产的薄膜成分,代入工程公式方程来确定合适地沉积参数;所述沉积参数为激光能量和x2。

2.根据权利要求1所述的预测方法,其特征在于,所述多元拼合靶材为二元拼合靶材Ax2B,x2=θAB,θA为A单元靶材的圆心角,θB为B单元靶材的圆心角,θAB=360°。

3.根据权利要求2所述的预测方法,其特征在于,所述二元拼合靶材的理论公式为:

式(1)中dA、dB为激光烧蚀深度,对于固定波长激光器,dA、dB为激光能量的函数:

式(2)中D为常数,I0为激光能量密度,bA、bB为单元靶材的光吸收系数;

式(1)中c(x,y,z,t)表示在一个脉冲周期T内,t时刻坐标为(x,y,z)位置的等离子体羽辉中某元素原/离子密度,方程式为:

式(3)、(4)中τ为脉冲持续时间,C、s为常数,X(t),Y(t),Z(t)为等离子羽辉边界,N为脉冲结束时羽辉中某一元素原/离子的总数,由下式给出:

是(5)中,D、s为常数,λ为激光波长,ρ为单元靶材密度,M为相对摩尔质量,NA为阿伏伽德罗常量。

4.根据权利要求2所述的预测方法,其特征在于,固定基板与靶材的相对位置,所述工程公式为:

式(7)中C1、C2、C3为常数。

5.根据权利要求2所述的预测方法,其特征在于,所述二元拼合靶材为BX2C靶材,固定激光能量值,所述工程公式进一步被简化为:

x1=Cx2        (8)

式(8)中,C为常数。

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