[发明专利]用于生物医学植入体的不锈钢的新开发的技术应用在审
申请号: | 201410714468.7 | 申请日: | 2014-11-28 |
公开(公告)号: | CN104975157A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 吕坚;王怀雨 | 申请(专利权)人: | 纳米及先进材料研发院有限公司 |
主分类号: | C21D7/10 | 分类号: | C21D7/10;C23C8/36;C23F17/00;A61L27/04 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 武晨燕;迟姗 |
地址: | 中国香港九龙清水湾香港科技大学赛马会*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 生物医学 植入 不锈钢 开发 技术 应用 | ||
相关申请的交叉引用
本申请是于2014年8月1日提交的申请号为14/449,158号非临时专利申请的部分继续申请,通过引用的方式将该申请的内容全部合并于此。
技术领域
本发明涉及纳米结构的栅格(lattice)和用于制造该纳米结构的栅格的方法,更具体讲,专门涉及通过表面机械研磨(attrition)处理方法制造的纳米结构的栅格。
背景技术
栅格由于其固有的多孔特征,通常被应用于轻质结构,例如桁架桥、体育场的框架屋顶和望远镜支架。在简单的二维(2D)空间中,常见的周期性栅格是由如等边三角形、正方形和正六边形这样的正多边形的几何形状构造而成的。见图1(Ashby和Gibson,1997;Fleck等,2010)。
然而,在一些情况下,栅格的机械性能,如拉伸强度、硬度、或延展性,不能完全满足某些应用场合的需要。
不锈钢316L因机械性能、耐腐蚀性和生物相容性的优异结合,是能够用于制造心血管支架的传统材料。然而,与用于支架的一些其它金属生物材料(例如,钴铬合金,Co-Cr)相比,316L SS在屈服强度和硬度方面仍然较差,因此为满足机械性要求,316L SS支架的支杆厚度(~150μm)应当要比Co-Cr支架的支杆厚度(~90μm)厚得多。金属支架对人体来说是异物,其介入目标血管后因容易引发诸如发炎和免疫排斥的不良组织反应往往导致血管长期干预之后可能再次变窄。通过患者治疗结果证实,具有较厚支杆的支架与具有较薄支杆的支架相比更容易引起病患血管的再狭窄。而且,支架的支杆太厚将降低其柔韧性,因此其通过引导导管以及通过冠状动脉的弯曲部位变得更加困难。在目前临床上使用的金属支架中还存在着一些其它问题,诸如潜在的毒性Ni的释放、相对较高的细胞毒性、对于特定细胞种类(例如,内皮细胞)的低细胞相容性以及低血液相容性。
CN101899554A公开了一种Ni-Ti合金,该Ni-Ti合金在表面机械研磨处理(SMAT)之后用等离子体氮化处理,以改善Ni-Ti合金的硬度。尽管在CN101899554A中示出了等离子氮化处理以改善Ni-Ti合金的硬度,但等离子氮化对其它金属合金的效果未必理想,尤其是不锈钢,这是因为不锈钢中的高含量铁在等离子氮化之后变得不稳定。等离子氮化还使来自那些金属合金Ni释放增加,高含量Ni的释放不利于细胞生长,因而不利于在那些金属合金所制成的支架周围的组织再生。
因此,需要这样一种316L SS合金作为用于制造植入式医学器件的生物材料:这种316L SS合金具有更高的屈服强度和硬度、Ni释放减少、细胞毒性相对较低、对内皮细胞具有更高的细胞相容性,血液相容性亦有所提高。
发明内容
因此,本发明的主要方面是提供一种在一组操作条件下应用具有期望尺寸和重量的多个球体的表面机械研磨处理(SMAT)来处理用于医学植入体的金属基底表面的方法。这些条件包括但不限于振动频率、振幅和处理时间。在示例性实施例中,用于处理金属基底表面的球体可以是尺寸为大约φ3.0mm的316L不锈钢球体或氧化锆(ZrO2)球体。将通过用球体的SMAT处理的金属基底是(镜面抛光的)316L不锈钢板。在另一实施例中,为了处理尺寸为100mm x 50mm x 0.9mm的金属基底,球体的总重量大约为20g。提供具有腔室的围挡,该围挡支撑金属基底和本发明的球体,以对金属基底执行SMAT。腔室还被构造为在金属基底的相对侧上支撑振动装置,以产生大约20,000Hz的振动频率,从而使球体沿腔室向着金属基底移动,来处理金属基底的表面。在又一实施例中,振动装置的工作振幅大约为80%。在金属基底的每一侧上的处理时间大约为15分钟;因此用于处理金属基底的两侧的总时间大约为30分钟。用于处理金属基底的两侧的总时间能够分为四个时间段:(i)从第0分钟至第1分钟;(ii)从第1分钟至第5分钟;(iii)从第5分钟至第29分钟;以及(iv)从第29分钟至第30分钟。在每个时间段,为了对金属基底的每一侧执行SMAT,利用本发明球体的每次敲击的平均持续时间为每次敲击5秒至15秒。在本发明中应当避免在SMAT之前进行等离子体氮化处理。
附图说明
下面参考附图,更详细地描述本发明的各个实施例,其中:
图1示出了现有技术中的不同形状的栅格;
图2示出了现有技术中,用于在SMAT过程中产生纳米结构的装置的示意图;
图3A-3D示出了根据本发明不同实施例的四种类型的纳米结构的栅格;
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