[发明专利]大面积等离子体处理装置与均匀等离子体生成方法

权利要求书

1. 一种大面积等离子体处理装置，其特征在于，包括： 

一超高频电源，提供超高频电力；

一功率放大器，与该超高频电源电性连接；

一匹配箱，与该功率放大器电性连接，以调整阻抗匹配；

一180°相位差功率分配器，与该匹配箱电性连接，并接收从该超高频电源传来，经过该功率放大器以及该匹配箱的超高频电力，并将超高频电力转换为正负180度相位差电位；

一示波器，与该180°相位差功率分配器连结；

一真空容器；

二平行平板电极，设置于该真空容器内，且该等平行平板电极非接地重叠，呈绝缘悬浮，且互相平行，该等平行平板电极分别以一同轴电缆线与该180°相位差功率分配器电性连接，以接收正负180度相位差电位的超高频电力，其中该等同轴电缆线分别透过一双极真空电源接头导入该真空容器内；以及

一可变电容器，以二同轴电缆线分别与该等平行平板电极连接，并与该等平行平板电极形成并联，其中该等同轴电缆线分别透过一双极真空电源接头导入该真空容器内。

2. 如权利要求1所述的大面积等离子体处理装置，其特征在于，该等同轴电缆线分别与该等平行电极平板的中央供电端点连接。

3. 如权利要求2所述的大面积等离子体处理装置，其特征在于，该真空容器内的该等同轴电缆线到该等平行平板电极的中央供电端点为之的长度小于该等平行平板电极的电磁波波长的1/8。

4. 如权利要求1~3中任意一项所述的大面积等离子体处理装置，其特征在于，该真空容器更包括一反应气体入口以及一排气系统，该反应气体入口导入气体至该真空容器内，该排气系统排出该真空容器内的气体。

5. 如权利要求1~3中任意一项所述的大面积等离子体处理装置，其特征在于，该可变电容器的可变电容值范围为30~50皮法拉。

6. 如权利要求4所述的大面积等离子体处理装置，其特征在于，该可变电容器的可变电容值范围为30~50皮法拉。

7. 一种均匀等离子体生成方法，其特征在于，包括步骤：

设置一超高频电源，以提供超高频电力；

设置一与该超高频电源电性连接的功率放大器，以放大该超高频电力的功率；

设置一与该功率放大器电性连接的匹配箱，调整阻抗匹配；

设置一与该匹配箱连接的180°相位差功率分配器，以将该超高频电力转换为正负0度~180度相位差电位；

将二平行平板电极设置于一真空容器内，且该等平行平板电极非接地重叠，呈绝缘悬浮，且互相平行，该等平行平板电极分别以一同轴电缆线与该180°相位差功率分配器电性连接，该等平行平板电极分别接收正负0度~180度相位差电位的超高频电力；以及

在该真空容器外设置一可变电容器，该可变电容器以二同轴电缆线分别与该等平行平板电极连接，并与该等平行平板电极形成并联。

8. 如权利要求7所述的均匀等离子体生成方法，其特征在于，该等同轴电缆线分别与该等平行电极平板的中央供电端点连接。

9. 如权利要求8所述的均匀等离子体生成方法，其特征在于，该真空容器内的该等同轴电缆线到该等平行平板电极的中央供电端点为之的长度小于该等平行平板电极的电磁波波长的1/8。

10. 如权利要求7~9中任意一项所述的均匀等离子体生成方法，其特征在于，该可变电容器的可变电容值范围为30~50皮法拉。