[发明专利]一种制备量子点自组装膜的方法有效
| 申请号： | 201410720208.0 | 申请日： | 2014-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN105714288B | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 朱劲松;程志强;吴侠;杨鑫;周文菲;杨墨 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;G01N21/552;G01N21/64;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 量子 组装 方法 | ||
1.一种制备量子点自组装膜的方法，所述方法包括如下步骤：
(1)制备表面修饰羧基的蒸镀金属层基底：
将蒸镀金属层基底浸没在浓度为5mM-10mM的长链羧酸中16-24h，得到表面修饰羧基的蒸镀金属层基底；
(2)制备表面修饰NTA与Ni2+的量子点：
在量子点中分别加入EDC水溶液和NHS水溶液以活化量子点表面羧基基团，然后再加入NTA水溶液进行反应，反应后加入二价镍盐溶液，离心分离，得到表面修饰NTA和Ni2+的量子点；
其中，所述EDC水溶液的浓度为1mM到1M；所述NHS水溶液的浓度为1mM到1M；所述NTA水溶液的浓度为1mM到1M；所述二价镍盐溶液的浓度为1mM到1M；
(3)制备量子点自组装膜：
将步骤(1)制备的表面修饰羧基的蒸镀金属层基底浸没在步骤(2)制备的表面修饰NTA与Ni2+的量子点溶液中，在室温及真空下孵化4-6h，得到蒸镀金属层基底表面的量子点自组装膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中EDC水溶液的浓度为50mM到0.5M。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中EDC水溶液的浓度为为0.1M。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中NHS水溶液的浓度为50mM到0.5M。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中NHS水溶液的浓度为0.4M。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中NTA水溶液的浓度为5mM到0.1M。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中NTA水溶液的浓度为10mM。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中二价镍盐溶液的浓度为5mM到0.1M。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中二价镍盐溶液的浓度为10mM。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的基底选自玻璃、石英和/或硅基底表面。
11.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中蒸镀金属层基底通过真空蒸镀法在基底表面镀金属层制备而成。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述金属选自金、银和/或铝。
13.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中蒸镀金属层的厚度为10nm到100nm。
14.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中蒸镀金属层的厚度为30nm-60nm。
15.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中蒸镀金属层的厚度为50nm。
16.根据权利要求1-15中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的长链羧酸为含有巯基且链长大于六个碳原子的脂肪酸。
17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的长链羧酸为巯基十一酸。
18.根据权利要求1-15中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中的量子点选自CdTe、CdSe和CdSe/ZnS纳米颗粒。
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