[发明专利]一种光学薄膜应力光学系数的测量方法有效

专利信息
申请号: 201410720577.X 申请日: 2014-12-02
公开(公告)号: CN104359600A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 刘华松;姜玉刚;刘丹丹;季一勤;姜承慧;王利栓;杨霄 申请(专利权)人: 中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所
主分类号: G01L1/24 分类号: G01L1/24
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 刘东升
地址: 300308 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学薄膜 应力 光学 系数 测量方法
【权利要求书】:

1.一种光学薄膜应力光学系数的测量方法,其特征在于,其包括如下步骤:

步骤S1:获得应力光学系数B的计算公式;

光学薄膜沉积后的高应力状态与薄膜沉积过程、基底状态相关,薄膜制备后的残余应力不可避免存在,因此各向同性的薄膜材料在残余应力作用下产生诱导双折射现象,这就意味着各向同性的薄膜材料在光学上就变成了各向异性;由于薄膜应力为平面双轴应力,因此应力诱导薄膜材料出现类双轴晶体结构折射率椭球,该类双轴晶体结构折射率椭球为x-y-z三轴模型结构;σx和σy为x和y两个方向的主轴应力,σz为z方向的主轴应力,应力光学系数定义为B,应力诱导的折射率椭球三个方向折射率与应力的关系通过应力光学系数联系如下:

nx-ny=B(σxy)   (1)

nx-nz=Bσx   (2)

ny-nz=Bσy   (3)

对于薄膜应力的实际情况,σx=σy=σ,σz=0,在x-y平面诱导的折射率为nx=ny=n,z方向的折射率为nz;因此,由上述公式(1)-公式(3),得到如下的公式(4),即可通过测量薄膜的应力和双折射Δn即可得到应力光学系数B;

B=σΔn=σn-nz---(4)]]>

其中薄膜应力单位为Pa,薄膜的应力光学系数单位为1/Pa;

步骤S2:利用椭圆偏振仪测量薄膜的反射椭圆偏振参数Ψ(λ)和Δ(λ),设定测量波长范围为λminmax,测量步长为Δλ,λmin和λmax的取值在薄膜材料的透明区域内,入射角度为θ;

步骤S2:对薄膜材料建立单轴折射率椭球方程,建立光在平面双轴晶体内部传输的物理模型和数学计算模型;

步骤S3:薄膜-基底的反射椭圆偏振参数由薄膜和基底的折射率、薄膜的厚度df、入射角度θ共同确定,使用非线性优化算法,对测量的反射椭偏参数进行反演计算,当测量数据与理论计算的数据基本一致时,则认为反演计算成功;因此提前设定薄膜反演计算的评价函数如下:

MSE={12N-MΣi=1N[(ψimod-ψiexpδΨ,iexp)2+(Δimod-ΔiexpδΔ,iexp)2]}12---(5)]]>

MSE是测量值与理论模型计算值的均方差,N为测量波长的数目,M为变量个数,ψiexp、和Δiexp分别为i个波长的测量值,ψimod和Δimod分别为i个波长的计算值,δψ,iexp和δΔ,imod分别为i个波长的测量误差;从公式(5)中可以看出,MSE被测量误差加权,所以噪音大的数据被忽略掉,MSE越小表示拟合得越好;

步骤S4:通过上述反演计算得到薄膜材料的x-y方向折射率n与z方向折射率nz的折射率差Δn,同时得到薄膜的物理厚度df

步骤S5:薄膜应力通过测量薄膜-基底系统镀膜前后的表面面形变化,利用Stoney薄膜应力计算公式计算出薄膜的应力σ,计算公式如下:

σ=16Es(1-vs)ds2df(1R2-1R1)---(6)]]>

式中,Es和vs分别为基底的弹性模量和泊松比;ds和df分别表示基板和薄膜的物理厚度,ds通过千分尺测量得到,df由上述步骤S4反演计算得到;R1和R2分别为薄膜镀制前后基板的曲率,由激光表面干涉仪测量获得;

步骤S6:得到薄膜的折射率差Δn和薄膜应力σ后,利用公式(4)就可以得到薄膜材料的应力光学系数。

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