[发明专利]线栅偏光片及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种线栅偏光片，包括衬底，其特征在于，所述衬底中间隔设置有呈阵列排布的线栅结构，所述线栅结构使得光能够从栅距透过，所述衬底除所述线栅结构以外的其他区域为连续不透光结构。

2.根据权利要求1所述的线栅偏光片，其特征在于，所述线栅结构中，栅线宽度范围为25-250nm，栅距宽度范围为25-250nm。

3.根据权利要求1所述的线栅偏光片，其特征在于，所述衬底采用金属材料形成。

4.根据权利要求1所述的线栅偏光片，其特征在于，所述衬底的厚度范围为20-250nm。

5.一种线栅偏光片的制备方法，其特征在于，用于在衬底中形成包括线栅结构的图案，所述线栅结构间隔设置且呈阵列排布，所述方法具体包括如下步骤：

步骤S1)：在基底上形成一层透明的支撑层；

步骤S2)：对所述支撑层加热，使得所述支撑层的温度高于玻璃化相变点温度；

步骤S3)：将压制模板以设定压力压入所述支撑层，所述压制模版中预制有间隔设置的与所述线栅结构中栅线图案相反的压制图案；

步骤S4)：保持设定压力，待所述支撑层温度降低到玻璃化相变点以下，去除所述压制模版；

步骤S5)：去除所述支撑层中对应着所述线栅结构中栅线的低凹区域以暴露出对应区域的所述基底，从而在所述支撑层中形成与所述线栅结构具有相同图案的掩膜图案；

步骤S6)：采用用于形成包括有所述线栅结构图案的所述衬底的金属材料，在所述支撑层上方形成金属材料层；

步骤S7)：去除所述支撑层以及附着在所述支撑层上方的金属材料，从而形成衬底以及包括有所述线栅结构的图案。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1)中，形成所述支撑层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环烯烃树脂或交联聚乙烯中的任一种，所述支撑层采用旋覆方式形成，所述支撑层的厚度范围为0.1-0.3μm。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1)中，所述支撑层采用聚甲基丙烯酸甲酯形成，聚甲基丙烯酸甲酯的玻璃化相变点温度为105℃；在步骤S2)中，所述支撑层的加热温度范围为180-220℃。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在步骤S3)中，所述压制模版采用二氧化硅材料形成，所述压制模版中压制图案的栅线宽度范围为25-250nm，栅距宽度范围为25-250nm，栅线深度范围为20-250nm；设定压力范围为12-14MPa。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在步骤S5)中，采用氧气反应型离子刻蚀所述支撑层，直至所述支撑层中对应着所述线栅结构中栅线的低凹区域以暴露出对应区域的所述基底。

10.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在步骤S6)中，所述金属材料包括铝或银，采用溅射沉积方式在所述支撑层上方形成铝层或银层。

11.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在步骤S7)中，通过溶脱方式去除所述支撑层以及附着在所述支撑层上方的金属材料，从而形成所述衬底以及包括有所述线栅结构的图案。

12.一种显示面板，包括显示区和围绕在所述显示区周边的非显示区，所述显示区包括多个间隔排列的亚像素区，其特征在于，所述显示面板对应所述显示区的区域设置有权利要求1-4任一项所述的线栅偏光片，所述线栅偏光片对应所述亚像素区的区域为线栅结构，其他区域为金属薄膜结构。

13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板或所述第二基板对应所述亚像素区的区域设置有多个不同颜色的彩膜图案，所述线栅结构和所述彩膜图案一一对应。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜图案包括周期性设置的多个不同颜色的色阻层，多个不同颜色的所述色阻层对应的所述线栅结构的栅距相同。