[发明专利]一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺

权利要求书

1.一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于包括以下步骤：

①将钕铁硼薄片环形产品进行首次电镀前处理；

②将电镀处理后的每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，所述的绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，所述的绑带的宽度为1～3mm，所述的绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2～20mm，所述的绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈后打结；

③将捆好绑带的钕铁硼薄片环形产品放入电镀用滚筒中；

④将装入滚筒内的钕铁硼薄片环形产品进行再次电镀前处理：将滚筒依次放入除油槽内进行除油处理、除锈槽内进行除锈处理和活化槽内进行活化处理；

⑤将滚筒放入第一电镀池内进行首次电镀镍处理，镀层厚度为2～6um；

⑥将滚筒放入第二电镀池内进行电镀铜处理，镀层厚度为2～10um；

⑦将滚筒放入第三电镀池内进行再次电镀镍处理，镀层厚度为2～10um。

2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的非导电性材料为聚丙烯材料或者聚酰胺材料。

3.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的首次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为200～400g/L，氯化镍的浓度为20～70g/L，硼酸的浓度为20～70g/L，所述的硫酸镍溶液的PH为3.5～5.0，温度在40～60℃。

4.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的电镀铜处理过程中使用的电镀溶液为焦磷酸铜溶液，所述的焦磷酸铜溶液由焦磷酸钾、焦磷酸铜和水混合而成，其中焦磷酸钾的浓度为200～400g/L，焦磷酸铜的浓度为20～70g/L，所述的焦磷酸铜溶液的PH为7.5～9.0，温度在30～50℃。

5.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的再次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为150～350g/L，氯化镍的浓度为20～70g/L，硼酸的浓度为20～70g/L，所述的硫酸镍溶液的PH为3.5～5.0，温度在40～60℃。