[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示面板及显示装置有效
申请号: | 201410735119.3 | 申请日: | 2014-12-04 |
公开(公告)号: | CN104375320B | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 袁慧芳;陆相晚 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 柴亮,张天舒 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制备 方法 面板 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,具体地,涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板及显示装置。
背景技术
现有的ADS模式的液晶显示装置包括对盒在一起的阵列基板、彩膜基板,以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。图1为ADS模式显示装置中彩膜基板的示意图。如图1所示,彩膜基板包括衬底基板10以及制备在衬底基板10上的彩色滤光片11和黑矩阵12。其中,彩色滤光片11包括多种颜色的色阻,用于使组成一个像素的多个子像素分别显示相应的颜色。黑矩阵12包括第一黑矩阵120和第二黑矩阵121,第一黑矩阵120沿彩膜基板的边缘环绕一周,其内部区域对应于显示装置的有效显示区(Active Area)13;第二黑矩阵121包括分别沿显示装置的行方向和列方向依次设置的多个黑矩阵条,用于遮蔽显示装置的栅线、数据线及其他信号线;第一黑矩阵120和第二黑矩阵121由低电阻率的材料制备,使第一黑矩阵120和第二黑矩阵121的阻抗值具体可以为107Ω级别,以在显示过程中去除静电,避免在显示过程中出现残像问题。
一般地,在制备彩膜基板时,首先在一个大面积的衬底基板10上制备出多个彩膜基板的彩色滤光片11和黑矩阵12等结构,而后,通过切割获得多个彩膜基板。就图1所示彩膜基板的制备而言,在进行切割时,由于黑矩阵12具有较低的电阻率,若沿第一黑矩阵120的边缘切割,则采用该切割出的彩膜基板的显示装置在使用过程中,其内外的静电会通过黑矩阵导通,从而会引起显示装置显示的黑色画面发绿;因此,在切割图1所示彩膜基板时,需要在第一黑矩阵120外(以第一黑矩阵120所环绕的区域为内,以未被第一黑矩阵120环绕的区域为外)切割,且该切割线与第一黑矩阵12的外侧边缘之间需要具有预设距离,一般地,该预设距离为0.2mm。
在上述彩膜基板中,第一黑矩阵120外侧的区域(即第一黑矩阵120外侧边缘至切割线之间的区域)允许光线透过,会使得采用上述彩膜基板的显示装置的边缘出现漏光不良,特别是,在显示装置的边框较窄的情况下,边框对漏光的遮蔽作用减小,漏光的问题就更加严重和突出,严重影响显示装置的显示效果。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种显示基板及其制备方法、显示面板及显示装置,所述显示基板可以降低光线在漏光区的透过率,从而降低漏光区的亮度,减少观看者观察到漏光区漏光的几率。
为实现本发明的目的而提供一种显示基板,包括第一黑矩阵,所述第一黑矩阵环绕所述显示基板的有效显示区,且第一黑矩阵的外侧具有环绕第一黑矩阵的漏光区,所述显示基板还包括环绕所述第一黑矩阵的滤光层,所述滤光层覆盖所述漏光区,用以降低光线在显示基板的所述漏光区的透过率,并且,所述滤光层的电阻率高于所述第一黑矩阵的电阻率。
其中,所述显示基板上制备有多种颜色的色阻,所述滤光层的颜色与其中一种色阻的颜色相同,且所述滤光层的图形和与其同色的色阻的图形同层设置。
其中,所述滤光层的颜色为红色、绿色、蓝色中的任意一种。
其中,所述滤光层包括第一滤层和第二滤层;所述显示基板上制备有多种颜色的色阻,所述第一滤层、第二滤层的颜色分别与其中两种色阻的颜色相同;所述第一滤层的图形和与其同色的色阻的图形同层设置,所述第二滤层的图形和与其同色的色阻的图形同层设置。
其中,所述滤光层的透光率小于30%。
其中,所述滤光层采用不透光材料制成。
其中,所述滤光层内侧与第一黑矩阵的外侧部分重叠。
其中,所述滤光层的内侧与所述第一黑矩阵的外侧的重叠部分的宽度在6~7μm。
作为另一个技术方案,本发明还提供一种显示基板的制备方法,用于制备本发明提供的上述显示基板,所述显示基板的制备方法包括形成第一黑矩阵的步骤和形成滤光层的步骤,所述第一黑矩阵将显示基板的有效显示区和漏光区分隔,所述滤光层覆盖所述有效显示区外侧的漏光区,用以降低光线在显示基板的所述漏光区的透过率,且所述滤光层的电阻率大于所述第一黑矩阵的电阻率。
其中,在形成所述滤光层的步骤中,同时形成与所述滤光层同色的色阻的图形。
其中,形成所述滤光层的步骤包括:形成第一滤层的图形的步骤,形成与第一滤层颜色不同的第二滤层的图形的步骤;在形成第一滤层的图形的步骤中,同时形成与所述第一滤层同色的色阻的图形;在形成第二滤层的图形的步骤中,同时形成与所述第二滤层同色的色阻的图形。
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