[发明专利]一种砚台在审
申请号: | 201410737603.X | 申请日: | 2015-08-03 |
公开(公告)号: | CN104494342A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 陈恒超 | 申请(专利权)人: | 宁波市镇海禅一心品文化发展有限公司 |
主分类号: | B43L27/02 | 分类号: | B43L27/02;B43M9/00 |
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地址: | 315200 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 砚台 | ||
技术领域
本发明涉及文化用品领域,尤其是一种笔洗、保湿等功能为一体的砚台。
背景技术
书法是我国的国粹,是中华五千年文明最主要的象征之一。书写时需要毛笔、砚台、笔洗、镇尺、笔架等工具,研墨、蘸墨、书写、取水、掭笔、洗笔等动作连贯,而且需要具有文化内涵丰富的书法工具,调节书写者的情绪,激发创作者的灵感。但现有的书法用具各自分离,导致动作不连贯,整个书法过程不流畅,目前虽然有一些用现代材料制成的组合书法用具,但缺乏传统文化内涵,影响了书写者、创作者的创作激情,不利于书写者、创作水平的发挥与提高。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种笔洗、保湿等功能为一体并具有深厚的传统文化内涵的砚台。
为达到上述目的,本发明的技术方案是:一种砚台,包括砚身和砚盖,砚身和砚盖用砚石制作,砚身的形状为圆柱体,砚身内中间为砚堂,砚堂为正四方形,砚堂上面为以球面下凹,砚身壁与砚堂之间为凹形的笔洗槽,砚身壁外侧雕刻图案,砚盖为倒“T”形状,砚盖柄和砚盖板的顶面雕刻图案。
砚堂正四方形的边长为砚身外径的一半,砚堂顶面最高处离砚身顶面为1/4砚身高,砚堂顶面中央球面下凹处与笔洗槽底面处于同一平面,砚身底部为倒凹形结构。
砚盖柄和砚盖板的直径比为1:2.4~2.6,砚盖柄和砚盖板的高度比为3:0.9~1.1。
本发明的有益效果是:砚堂为研墨、盛墨区,由于砚堂处于整个砚身中央,又为正方形,故在研墨时不会晃动,防止墨汁溅出,由于砚堂上面为以球面下凹,方便掭笔。砚身壁与砚堂形成凹形的笔洗槽,方便洗笔,可有效地防止洗笔过程中周围环境的污染。砚盖正放可以作镇尺使用,倒立放置后可作为笔架或掭笔用具。当书写结束后砚堂所剩之墨可不清洗、适当加水,笔洗槽中留适当水量,盖上即可使砚堂之墨保湿一个月左右不干涸。书写过程中取水、润笔、研墨、盛墨、蘸墨、书写、洗笔、掭笔等动作环节在一定范围内完成,整个过程比较连贯、流畅,一气呵成,最大限度的为书写者和创作者提供了良好的书写条件。砚身内部的形状为里方外园,体现了“胆欲大而心欲小,智欲圆而行欲方”之寓意,有洞明世事的至高学问和为人处世的方圆智慧,引导人们有层次不出的感悟,做出哲理体认,策励人们观物鉴人、反求诸已、自省自勉,善待此砚,自我观照。加之砚身壁外侧、砚盖柄和砚盖板的上面雕刻了富有中华文化精髓的图案,丰富了砚台的传统文化内涵,可以唤起书写者挥毫泼墨的兴致,激发创作者敏捷的才思。
附图说明
图1是本发明的剖面结构示意图;
图2是本发明的外观结构示意图;
图3是本发明的砚身的B—B的剖面结构示意图;
图4是本发明的砚身的A—A的剖面结构示意图;
图5是本发明的砚身的俯视结构示意图;
图6是本发明的砚盖的正视结构示意图;
图7是本发明的砚盖的俯视结构示意图。
图中:砚身1、砚盖2、砚堂3、砚身壁4、笔洗槽5、砚盖柄6、砚盖板7。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本发明的技术方案作进一步具体的说明。
如图1~图7所示,一种砚台,包括砚身1和砚盖2,砚身1和砚盖2用砚石制作,砚身1的形状为圆柱体,砚身1内中间为砚堂3,砚堂3为正四方形,砚堂3上面为以球面下凹,砚身壁4与砚堂3之间为凹形的笔洗槽5,砚身壁4外侧雕刻图案,砚盖2为倒“T”形状,砚盖柄6和砚盖板7的顶面雕刻图案。
砚堂3正四方形的边长为砚身1外径的一半,砚堂3顶面最高处离砚身1顶面为1/4砚身1高,砚堂3顶面中央球面下凹处与笔洗槽5底面处于同一平面,砚身1底部为倒凹形结构。
砚盖柄6和砚盖板7的直径比为1:2.4~2.6,砚盖柄6和砚盖板7的高度比为3:0.9~1.1。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进,这些改进也应视为本发明的保护范围。
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