[发明专利]粒子层的涂布方法、及磁记录介质的制造方法在审
| 申请号： | 201410738831.9 | 申请日： | 2014-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN105321537A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 渡部彰;木村香里;鬼冢刚 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/851 | 分类号： | G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;李照明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 粒子 方法 记录 介质 制造 | ||
1.一种粒子层的涂布方法，包括：
使粒子分散于溶剂中从而制作粒子涂布液的工序，所述粒子在表面具有使用第一高分子材料形成的第一被覆层；和
在基板上涂布粒子涂布液从而形成单粒子层的工序，所述基板具有使用与所述第一高分子材料具有相同骨架的第二高分子材料形成的第二被覆层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶剂具有链状结构。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶剂具有酮结构，并且具有10以上的相对介电常数。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述粒子包含无机材料，所述无机材料含有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽、钨、金、银、钯、铜、铂中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一高分子材料为数均分子量在1000至50000之间的聚苯乙烯。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二高分子材料为数均分子量在1000至50000之间的聚苯乙烯。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶剂为丁酮或甲基丙基酮。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述粒子涂布液通过浸涂法进行涂布。
9.一种磁记录介质的制造方法，具备：
用权利要求1～8中任一项所述的方法在基板上形成单粒子层的工序；和
在该单粒子层上形成磁记录层的工序。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述粒子涂布液通过浸涂法进行涂布。
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