[发明专利]一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统

权利要求书

1.一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制装置，其特征在于，包括非接触温度测量单元、二维扫描单元和外围数据采集控制单元和，所述的非接触温度测量单元包括测量单元安装外壳和光路系统，所述光路系统包括消杂光光阑、孔径光阑、平面反射镜、离轴抛物面镜、频率调制器、分光片、光束收集器、MTC探测器、光束收集器和中波红外InSb探测器，所述安装外壳下端固定有离轴抛物面镜，所述离轴抛物面镜上方固定有平面反光镜，所述平面反光镜右侧依次固定有消杂光光阑、孔径光阑，所述消杂光光阑、孔径光阑固定在所述安装外壳内，所述平面反光镜10的右侧上方固定有中波红外InSb探测器，所述中波红外InSb探测器上端设有光束收集器，所述光束收集器上端设有分光片，所述分光片右侧依次设有光束收集器、MTC探测器，所述的长波红外MCT探测器和中波红外InSb探测器都采用液氮制冷方式，所述的外围数据采集控制单元包含有探测器数据采集控制模块、二维扫描单位控制模块和温度反馈控制单元，所述外围数据采集控制单元的输入端与长波红外MCT探测器和中波红外InSb探测器相连。

2.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的测量安装外壳的内表面涂有高吸收率消杂光黑漆。

3.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的非接触温度测量单元中的光机设备都采用液氮制冷方式消除背景杂散光。

4.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的非接触温度测量单元中的光机设备都贴有温度传感器。

5.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的非接触温度测量单元通过测量红外辐射的方法来实时反演微波辐射源的温度。

6.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的二维扫描单元包括X、Y两轴方向扫描功能，可以在10分钟内完成微波辐射源全辐射面的扫描。

7.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的外围数据采集控制单元可以通过反馈控制微波辐射源的辐射温度。

8.根据权利要求1所述的一种低温真空微波辐射源温度均匀性测量与控制系统，其特征在于，所述的非接触温度测量单元和二维扫描单元在真空度10^-3Pa、热沉温度100K的环境下正常使用。