[发明专利]从有机硅废触体中提铜的工艺在审

专利信息
申请号: 201410744120.2 申请日: 2014-12-09
公开(公告)号: CN104451162A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 李晓明;王志杰;任海涛;陈春江;孙长江;闫超;乔艳慧;赵由春;李全昶;王春英;李献起 申请(专利权)人: 唐山三友硅业有限责任公司
主分类号: C22B7/00 分类号: C22B7/00;C22B15/00
代理公司: 唐山永和专利商标事务所 13103 代理人: 明淑娟
地址: 063305*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 有机硅 废触体中提铜 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种有机硅单体生产中副产物的应用,特别是一种从有机硅废触体中提铜的工艺。

背景技术

工业化有机硅单体大多采用直接法生产,即以铜及铜的氯化物或氧化物为催化剂,由氯甲烷和硅粉反应生成以二甲基二氯硅烷为主的混合甲基氯硅烷。甲基氯硅烷单体以二甲基二氯硅烷的用量最大,约占甲基氯硅烷的80%以上,因而如何提高直接法中二甲基二氯硅烷的含量一直是研究热点,也是直接法的技术关键。直接法合成甲基氯硅烷在工业上采用流化床反应器,平均30~50天为一个周期。为了保证催化系统的高效,在反应周期中要不断补加新的铜系催化剂,并且通过旋风分离系统不断采出表面活性降低的铜粉。当单体产物转化率和选择性降低到一定程度后,反应周期结束,所有床内剩余的固体物料都要排出,以硅粉和铜粉为主。以上两部分固体工业废渣,称为有机硅废触体。废触体由于粒径较小,且铜粉的活性较高,因此暴露在空气中能够引起氧化甚至燃烧。

由于废触体中含有数量可观的铜元素,如果可回收利用,效益明显,如果处理不当则会对环境造成污染并存在安全隐患。

直接法合成甲基氯硅烷的主要原料氯甲烷,是由氯化氢与甲醇在氯化锌水溶液的催化下反应制得的。为了满足要求,氯甲烷在参与反应前需利用浓硫酸干燥系统进行脱水干燥。以10万吨/年的单体生产装置计算,硫酸干燥系统每年约产生1500吨废硫酸。由于废硫酸浓度在75~85%左右,含有水分和杂质,造成销售和处理比较困难,成为有机硅单体生产的一个制约条件。

目前对于针对上述的有机硅废触体,有以下几种处理方法:

(1)制备三氯氢硅或四氯化硅:CN101391775A 中提到,利用有机氯硅烷副产的废触体制备三氯氢硅,由于废触体中含有其他杂质,同样会影响产率和收率,目前未见有实际应用。

(2)氨浸法:CN 102020307 B 中提到,将有机含铜废催化剂浸入碳酸铵或碳酸氢铵溶液中,对铜氨溶液进行负压蒸氨,过滤后得到氧化铜。根据其实施例所述,该方法处理铜的回收率较氧化还原法低,同时该方法,需要负压蒸氨及吸收装置,对设备要求较高,高温煅烧制备氧化铜耗能较大。

(3)氧化还原法:CN103555951 A中提到,用含有氧化剂的盐酸溶液对废触体进行酸化处理,中和后用铁丝置换铜。该方法中提到废液可用于制备氯盐,但废液中还含有未完全置换出的铜等离子,后续处理难免会对环境造成影响。该方法中提到先中和酸,后置换铜,酸碱用量过大,对于处理废触体会造成成本增加。该方法中提到用铁丝置换铜,在实际生产中,使用铁丝置换铜,反应速度较慢,而且反应不够充分,用于生产效率较低。

(4)其他方法:CN1844422 A中提到,用草酸溶液作为浸出剂和沉淀剂,该方法无法处理含铜、氧化亚铜、氧化铜的三元铜体系废触体,且采用高温煅烧制备氧化铜,耗能较大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种从有机硅废触体中提取铜的工艺。

实现以上发明目的所采用的技术方案是:

一种从有机硅废触体中提铜的工艺,按如下步骤进行:

a、酸浸、氧化、过滤:

在带搅拌反应槽A内注入生产水500~1500质量份、70%-98%质量百分比浓度的硫酸1~150质量份,通过粉体输送装置将280~320质量份有机硅废触体输送至反应槽A内,加入1~150质量份的氧化剂,反应1~4个小时,控制反应温度10~80℃,控制pH值0.5~2,反应完毕后将固液混合物料输送至过滤装置中,分离出的固渣主要成分为硅粉,铜含量低于0.5%质量比;

 b、置换铜、过滤:

经步骤a分离出的含铜离子酸性滤液送至反应槽B内,加入还原铁粉15~60质量份;控制反应温度20~80℃,反应时间0.5~4小时,反应完毕后将固液混合物料输送至过滤装置中,分离出的铜粉,纯度达到99%以上,能够进一步熔炼和电积生产高纯度铜;

c、中和、沉淀铁元素,过滤,废水回收:

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