[发明专利]移动体驱动系统及方法、图案形成装置及方法、曝光装置及方法、组件制造方法

权利要求书

1.一种透过投影光学系统以照明光将基板曝光的曝光方法，其特征在于包括：

通过于载置前述基板的载台设有栅格部与读头的一方且前述栅格部与前述读头的另一方设于前述载台的外部的编码器系统的与前述栅格部对向的复数前述读头来测量前述载台的位置信息的动作；

基于用来补偿起因于关于与在与前述投影光学系统的光轴垂直的既定平面内互相正交的第1与第2方向的一方相异的方向的前述读头与前述栅格部的相对运动的前述编码器系统的测量误差的补正信息与前述已测量的位置信息来控制关于前述一方的方向的前述载台的驱动的动作；

前述载台的移动中，将用于前述测量的前述复数读头的1个切换为其他读头的动作；

基于通过前述切换前使用的前述复数读头测量的位置信息，决定为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息，

前述切换后，通过包含前述复数读头中除去前述1个读头的剩下的读头、前述其他读头的复数读头来测量前述载台的位置信息。

2.如权利要求1记载的曝光方法，其特征在于：

前述切换前，通过与前述栅格部对向的3个前述读头测量前述载台的位置信息，前述切换后，通过包含前述3个读头中除去前述1个读头的2个读头、与前述3个读头相异的前述其他读头的3个读头来测量前述载台的位置信息，

为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息是基于通过前述切换前使用的前述3个读头测量的位置信息来决定。

3.如权利要求2记载的曝光方法，其特征在于：

为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息是在包含前述切换前使用的前述3个读头、前述其他读头的4个读头与前述栅格部对向的期间决定。

4.如权利要求3记载的曝光方法，其特征在于：

从前述1个读头往前述其他读头的切换是在前述4个读头与前述栅格部对向的期间进行。

5.如权利要求1～4中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

前述编码器系统的3个或4个前述读头与前述栅格部对向，与前述栅格部对向的读头是通过前述载台的移动而从前述3个读头、前述4个读头的一方变更为另一方。

6.如权利要求1～5中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

前述栅格部具有分别形成反射型栅格的4个标尺构件，

通过与前述4个标尺构件的3个或4个分别对向配置的3个或4个前述读头测量前述载台的位置信息。

7.如权利要求1～6中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息是以在前述切换的前后前述载台的位置被维持或前述载台的位置信息连续的方式来决定。

8.如权利要求1～7中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

前述相异的方向包含与前述第1及第2方向正交的第3方向、绕与前述既定平面正交的轴的旋转方向、绕与前述既定平面平行的轴的旋转方向的至少1个。

9.如权利要求1～8中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

通过设为包围前述投影光学系统的下端部的嘴单元，在前述投影光学系统下以前述液体形成液浸区域，透过前述投影光学系统与前述液浸区域的液体以前述照明光曝光前述基板，

前述栅格部与前述读头的另一方相对于前述投影光学系统设于前述嘴单元的外侧。

10.如权利要求1～9中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

前述基板是以其表面与前述载台的上面大致同一面高的方式载置于前述载台。

11.如权利要求1～10中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

前述载台是在其上面的凹部内以前述基板的表面与前述上面大致同一面高的方式保持前述基板。

12.如权利要求1～11中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

对前述栅格部照射测量光束，测量关于与前述第1及第2方向正交的第3方向的前述载台的位置信息。

13.如权利要求1～12中任一项记载的曝光方法，其特征在于：

通过前述编码器系统来测量关于包含前述第1及第2方向、与前述第1及第2方向正交的第3方向的6自由度方向的前述载台的位置信息。