[发明专利]用膜浸润基材的方法

说明书

本发明申请是2009年3月17日提交的申请号为200910128585.4、发明名称为“具有改进的浸润性的掩蔽膜”的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本申请涉及用来在制造、运输或使用过程中保护基材的掩蔽膜。所述掩蔽膜包含至少一种金属茂聚烯烃树脂，在基材上具有改进的浸润性。所述掩蔽膜可以被施加在平坦的、织构化的或涂覆过的表面上，以及从这些表面上除去。本发明还涉及制备所述掩蔽膜的方法。

背景技术

掩蔽膜也被称为表面保护膜,通常为基材提供临时性的物理屏障，以防基材发生破坏、污染、刻划、刮擦或其它损坏。在使用之前的制造、运输或储存过程中，掩蔽膜为表面提供这些保护。掩蔽膜在许多的应用中为表面、特别是较平整的表面、例如丙烯酸类树脂、聚碳酸酯、聚酯玻璃、抛光的或涂漆的金属和上釉的陶瓷的表面提供保护性覆盖层。现代光学基材要求掩蔽膜能够保护表面，可以在不破坏表面的情况下从其上除去,而且除去之后不会在表面上残留粘合剂或者其它污染物或颗粒。

通常,表面保护膜包括电晕放电处理过的膜或者涂覆过粘合剂的纸和膜。电晕放电处理过的膜在静电放电条件下处理过，使得膜的表面氧化。通过氧化提高了膜的表面张力以及对极性表面的吸引力。这些电晕放电处理过的膜通常是没有压纹的，依赖于非常窄的电晕放电处理范围以促进粘合性。由于没有压纹，使得膜容易产生硬皱纹和胶凝。电晕放电处理产生的促进粘合性的效果还会随着时间推移而降低。掩蔽膜见述于美国专利第4,395,760；5,100,709；5,693,405；6,040,046；6,326,081；和6,387,484号，这些专利都参考结合入本文中。

人们需要具有以下性质的掩蔽膜，其不含粘合剂,但是能够提供与基材足够的粘合作用，以提供合适的保护。对基材的粘合性不应随时间推移而显著提高。人们还需要具有以下性质的掩蔽膜，其不含粘合剂，但是能够提供合适程度的对基材的浸润。掩蔽膜对基材的浸润使得在膜/基材界面处能够顺畅地接触。可能还需要掩蔽膜粘合侧具有低的表面电阻，以免由于静电而吸引污染物。

发明内容

根据本发明，提供了一种包括粘合层和第二层的掩蔽膜,所述粘合层主要由金属茂聚烯烃和低密度聚乙烯组成，所述第二层由刚性大于粘合层的聚烯烃制成。另外,改进的掩蔽膜可以包括：粘合层，其包含金属茂聚乙烯共聚物和离聚物树脂；芯层，其包含拉伸模量高于内部粘合层中的金属茂聚乙烯的聚合物；以及包含聚合物的外皮层。

发明详述

在本发明中,除非上下文有明确的不同的描述，单数形式“一个”、“一种”和“该”包括复数形式。因此，例如，当描述“一层”的时候，也包括多个层的情况。

所述保护膜包括粘合层和第二层。所述第二层的刚性大于粘合层，从而为膜提供刚性、强度和其它所需的性质。所述粘合层可以包含金属茂聚乙烯和低密度聚乙烯的混合物。所述第二层可以包含低密度聚乙烯。

在另一个实施方式中，所述掩蔽膜由粘合层和第二层组成,所述粘合层主要由金属茂聚乙烯和低密度聚乙烯的混合物组成，所述第二层主要由低密度聚乙烯组成。

所述掩蔽膜具有改进的对基材的浸润性。浸润性是用来描述膜的亲合性的术语，由此可以自发地使得膜与基材表面亲密接触。浸润性可以是膜和基材表面之间接触性的度量，可以用膜与基材的接触面积百分数表示。膜的某些区域可能包括气囊，或者表面上包含会阻碍膜与基材的完全接触的杂质。

一般来说,使得膜和基材之间具有较高程度的接触，则粘合性更佳。可以通过施加压力等手段增加膜和基材的接触。但是，对于精细或脆弱的基材,如果要通过施加压力或者其他的膜操作来改进与基材的接触是不利的，可能会对基材造成破坏。因此，优选具有高度浸润性的膜。在将本文所揭示的膜施加于基材上之后的10秒之内，所述膜能够浸润至少90％的基材表面,更优选至少95％，更优选100％的基材表面。但是应当理解,膜的浸润能力会随着特定基材和膜的老化而改变。

较佳的是，在所述掩蔽膜的实施方式中，所述膜的一个面是平整的，另一个面是粗糙或不光滑的表面。在应用中，所述平整的一面被施加于被保护的表面上。粗糙的一面也由至少一层热塑性树脂组成。所述平整面的表面粗糙度(“Ra”)为0-60微英寸,或者更优选0-30微英寸。所述粗糙面可以防止粘连，表面粗糙度为25-600微英寸,更优选50-300微英寸。所述粗糙面可以通过任意合适的方式粗糙化，在优选的实施方式中可以通过粗糙压纹进行。认为包括粗糙面的掩蔽膜的实施方式能够防止膜与自身或者与其它任何表面的过多表面积发生接触,从而防止膜发生粘连和起皱。