[发明专利]一种浸没光刻机浸没单元防碰撞装置及方法有效

专利信息
申请号: 201410758603.8 申请日: 2014-12-12
公开(公告)号: CN105739245B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 秦少伍;聂宏飞 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 浸没 光刻 单元 碰撞 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种浸没光刻机浸没单元防碰撞装置,用于防止浸没单元与硅片台发生碰撞,其特征在于,包括:

传感器,所述传感器与所述浸没单元保持相对位置固定,所述传感器沿所述浸没光刻机的光轴的平行方向发射一电磁光束来测量所述浸没单元与硅片台的距离或相对速度或相对加速度;

测量装置,将所述传感器测量得到的电信号转换成数字信号;

控制器,用于接收所述数字信号,判断所述浸没单元与硅片台的相对位置或速度是否存在碰撞风险,并发出相应的控制命令;

驱动器,根据所述控制器发出的控制命令驱动所述浸没单元;

所述传感器位于所述浸没单元的底面的四个顶点或顶点与底面几何中心的连线上。

2.如权利要求1所述的浸没光刻机浸没单元防碰撞装置,其特征在于,所述传感器是激光位移传感器,或微波探测器、超声探测器、电容探测器。

3.如权利要求1所述的浸没光刻机浸没单元防碰撞装置,其特征在于,所述传感器的数量至少为三个。

4.如权利要求1所述的浸没光刻机浸没单元防碰撞装置,其特征在于,所述传感器的最低端与所述浸没单元最底端齐平。

5.一种浸没光刻机浸没单元防碰撞方法,其特征在于,采用如权利要求1-4任一项所述的防碰撞装置,包括:利用一传感器与所述浸没单元保持相对位置固定,所述传感器沿所述浸没光刻机的光轴的平行方向发射一电磁光束来测量所述浸没单元与硅片台的距离或相对速度或相对加速度;用于根据所述传感器的探测数据控制驱动器驱动所述浸没单元。

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