[发明专利]一种大光程检测装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学检测设备，尤其是对流体检测的光学检测设备。

背景技术

在市场现行的流体检测技术中，比色池做为最核心的部件之一，其结构对检测性能精度起决定性作用。流体中不同的物质对不同波长的光线的吸收不同，因此检测这种物质的方法是用它最容易吸收的检测光线在比色池内走一定的路程（即光程），通过从另一端测量通过比色池的特定检测光线的强度，计算出比色池内流体对光线强度的消耗量（即光损），进而计算出比色池内流体的这种物质的浓度。当需要检测的流体内某种物质浓度很低或者需检测物质产生的光损很小的时候，通常需要高光程的比色池才能对其进行检测。高光程也必然带来其他的负面影响，池子足够大才能有足够的光程，足够大的池子也必然带来反应试剂的消耗量很大，其灌注及清洗的耗费试剂及时间周期也很大。有些检测试剂成本极高，毒性大，污染大，处理成本高，这些都大大增加了检测成本。

目前市场上有规避以上问题的高光程的比色池，例如流通池，光程长且试剂消耗量小。但其结构特点也暴露了其在某些特殊环境下无法使用：高温高压消解及测量时，流通池加热、温控、高压密封均很难实现，且流通池内一旦产生或滞留气泡，对测量影响极大，测量结果与实际偏差很大。高温高压情况下测量，依然采用传统的在缠绕电热丝的圆柱型消解管两侧设置光电池和光检器的方法，其光程即为消解管的内径R。当检测精度无法满足测量要求时，采用的方法通常是增大消解管内径。当消解管内径增加一倍时，根据圆柱体积计算公式V=π(R/2)2h可以得知，R变为2R后，总体积变为4V。当R变为R/2后，总体积变为V/4。由此可见实际试剂消耗量与光程的二次方成正比，因此在增加光程来提高测量精度的同时，试剂增加的消耗量也十分庞大。当试剂成本很高或试剂有毒时，此种方法带来的新增消耗成本和新增废液处理成本也十分庞大。当检测精度可以满足测量要求时，在不影响检测精度条件下将内径缩短一半，其节省的试剂消耗成本及废液处理成本也十分可观。

发明内容

为了克服上述问题，本发明提供光程长、试剂消耗少的大光程检测装置。

本发明的技术方案是提供一种大光程检测装置，其包括一个中空的固定座，所述固定座上固定有上下两端开口的比色池，所述固定座在所述比色池一侧设置有向比色池中发射检测光线的检测光源与接收此检测光线的光检器，所述比色池的另一端紧贴比色池设置有反光膜。

优选的，所述比色池的横截面为方形。

优选的，所述比色池的横截面为圆形。

优选的，所述比色池的外壁有一个平面。

优选的，所述比色池的外壁有两个位于比色池两侧且相互平行的平面。

优选的，所述比色池其中之一侧壁平面上粘贴有反光膜。

优选的，所述比色池其中之一侧壁平面上镀有反光膜。

优选的，所述反光膜材料为：水银、银、铝或其他高反光材料。

本发明的大光程检测装置采用光反射原理，在不增加试剂消耗的情况下将光程提高一倍，极大的增加了测量精度；亦可在不改变光程及测量精度的情况下将试剂消耗缩小至1/4。而且此方案在最容易出现问题的高温高压方面延续了传统的被广泛使用的成熟方案，避免了新问题的产生。

 

附图说明

图1是本发明最佳实施例的结构示意图，图2是本发明立体剖切图。

具体实施方式

下面对本发明的具体实施方式作进一步详细的描述。

如图1所示，本发明的一种大光程检测装置包括一个中空的固定座1，固定座1可以根据需求设计成由一个或者多个零件组成，固定座内部设置有比色池2，固定座在比色池2的一侧还设置有光源3和光检器4，比色池2在与光源与光检器相反一侧设置有反光膜5。

进一步地，比色池2可以沿着固定座1的固定孔旋转，用以调节反光膜5与光源3及光检器4之间的角度，使光检器4能最大限度的接收到被反光膜5反射的来自光源3发出的光线。

本发明最佳实施例中，比色池2的两侧有两个相互平行的平面并且其中一平面设置有反光膜5，亦可没有平面或者只有一个平面。

反光膜5可以粘合在比色池2侧平面上，亦可镀在或者涂在比色池2的侧平面上。反光膜5采用常见的反光材料，如铝、银、汞或其他高反光材料。以上材料的使用，均利用其常见的性能，其未对本发明的结构作出创造性贡献，是本领域普通技术人员很容易想到的材料选择。

比色池2上可以设置有方便缠绕电热丝的凸起或圆环。