[发明专利]一种磁-声多场耦合成像实验装置有效
申请号: | 201410773975.8 | 申请日: | 2014-12-14 |
公开(公告)号: | CN104483384A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 夏慧;刘国强;李士强;夏正武;郭亮;杨延菊;刘宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | G01N29/06 | 分类号: | G01N29/06;G01N27/72 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 关玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 声多场 耦合 成像 实验 装置 | ||
1.一种磁-声多场耦合成像实验装置,其特征在于,所述的试验装置包括超声模块、电子学模块和机械模块;所述的超声模块用于超声的激励和超声信号的接收,所述的电子学模块用于电磁激励和微弱电信号的采集,所述的机械模块实现被测样品的扫描;
所述的超声模块包括超声阵列(13)、圆形骨架(10)和超声控制采集电路(3);超声阵列(13)与超声控制采集电路(3)之间电连接,超声阵列(13)均匀分布在圆形骨架(10)上;超声控制采集电路(3)控制超声阵列(13)内各个超声阵元的发射和接收;超声阵列(13)既是磁声成像的超声接收装置,也是磁声电成像的超声发射装置;
所述的电子学模块包括产生静磁场的磁体系统(4)、线圈(5)、激励电路、信号处理与采集电路和运动控制系统;所述的产生静磁场的磁体系统(4)为超导磁体、永磁体或电磁体,位于屏蔽式水槽(1)的外部,所述的产生静磁场的磁体系统(4)目的是在被测样品(6)内产生均匀磁场,产生静磁场的磁体系统(4)产生的静磁场方向与线圈(5)作为激励线圈时产生的脉冲磁场的磁场方向平行,同时产生静磁场的磁体系统(4)产生静磁场的有效半径最好小于被测样品(6)到超声阵列(13)之间的直线距离,即超声阵列(14)位于产生静磁场的磁体系统(4)产生的静磁场有效范围外;所述的线圈(5)既是激励线圈也是接收线圈,当线圈(5)作为激励线圈时和激励电路连接,当线圈(5)作为接收线圈时与信号处理与采集电路连接;激励线圈与激励电路连接作为磁声成像的激励源;接收线圈与信号处理、采集电路连接作为磁声电成像的检测系统;运动控制系统实现被测样品(6)的旋转,运动控制系统位于屏蔽式水槽(1)外,通过支杆连接到屏蔽式水槽(1)内部的机械模块的旋转齿轮(9)上;
所述的机械模块包括带齿轮的置物台(7)、超声屏蔽盒(8)、旋转齿轮(9)和吸声薄膜;置物台(7)的四周带有齿轮,置物台(7)的齿轮和旋转齿轮(9)咬合,旋转齿轮(9)带动置物台(7)旋转;超声屏蔽盒(8)位于置物台(7)下方,激励线圈和接收线圈放置在超声屏蔽盒(8)内;所述的吸声薄膜紧贴于屏蔽式水槽(1)的内壁面上;所述的机械模块密封于超声屏蔽式水槽(1)内,屏蔽式水槽(1)内还放置有超声模块的超声阵列;电子学模块和超声模块的超声控制采集电路固定在屏蔽式水槽(1)内壁的上壁面,超声阵列和被测样品之间通过放置在屏蔽式水槽(1)内的耦合剂耦合。
2.按照权利要求1所述的磁-声多场耦合成像实验装置,其特征在于,所述的超声屏蔽盒(8)与置物台(7)之间通过一个固定支柱连接,置物台(7)的上方放置一个隔声垫,隔声垫的半径稍大于圆形置物台(7)的半径;超声阵列(13)所在的平面与置物台(7)上的被测样品位于同一平面内。
3.按照权利要求1所述的磁-声多场耦合成像实验装置,其特征在于,所述的超声阵列(13)为单超声阵元,超声控制采集电路(3)控制超声阵列(13)内各个超声阵元的发射和接收。
4.按照权利要求1所述的磁-声多场耦合成像实验装置,其特征在于,所述的超声阵列(13)为由发射超声探头和接收超声探头组成的双超声阵元,发射超声探头和接收超声探头分别独立并分别控制;接收阵元(16)和发射阵元(15)同轴,接收阵元(16)被发射阵元(15)环绕;接收阵元(16)的阵面为圆形,发射阵元(15)的阵面为环形,接收阵元(16)和发射阵元(15)的阵面位于同一面平面内,并且发射阵元(15)和接收阵元(16)的阵面组成一个圆形阵面。
5.按照权利要求1所述的磁-声多场耦合成像实验装置,其特征在于,所述的屏蔽式水槽的六个内壁上贴有一层针对200KHz-10MHz频率范围的柔性吸声薄膜。
6.按照权利要求1所述的磁-声多场耦合成像实验装置,其特征在于,所述的接收线圈和激励线圈均成对出现;激励线圈对和接收线圈对中心轴重合,激励线圈对的两个激励线圈分别对称放置于被测样品(6)的上方和下方,上下布置的激励线圈组成赫姆赫兹线圈;接收线圈对的两个接收线圈对称放置于被测样品(6)的上方和下方,或者都置于被测样品(6)的上方或者下方;位于被测样品(6)下方的线圈置于机械模块的超声屏蔽盒(8)内,超声屏蔽盒(8)内抽真空。
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