[发明专利]微波等离子体源和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种微波等离子体源，其向等离子体处理装置的腔室内辐射微波而形成表面波等离子体，所述微波等离子体源的特征在于，包括：

生成并输出微波的微波输出部；

用于传送从所述微波输出部输出的微波的的微波供给部；和

构成所述腔室的顶壁，用于将从所述微波供给部供给来的微波辐射到所述腔室内的微波辐射部件，

所述微波供给部包括微波导入机构，该微波导入机构在所述微波辐射部件之上的与所述腔室内的周缘部分对应的位置沿圆周方向设置有多个，将微波导入到所述微波辐射部件，

所述微波辐射部件包括：

隙缝天线部，其具有沿着配置有所述微波导入机构的微波导入机构配置区域以整体形状呈圆周状的方式设置有多个的微波辐射用的隙缝；和

微波透射部件，其在与所述微波导入机构配置区域对应的位置以覆盖所述隙缝的方式设置成圆周状，由使从所述隙缝辐射的微波透射的电介质构成。

2.如权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于：

所述微波辐射部件在与所述微波导入机构对应的位置具有用于缩短微波的波长的滞波件。

3.如权利要求1或2所述的微波等离子体源，其特征在于：

所述微波辐射部件还包括：设置于所述隙缝天线部的内侧部分，向所述腔室内喷淋状地导入用于等离子体处理的气体的喷淋构造部。

4.如权利要求1～3中任一项所述的微波等离子体源，其特征在于：

所述微波辐射部件呈圆板状，所述微波等离子体源还包括配置在所述微波辐射部件之上的与所述腔室内的中央部分对应的位置的微波导入机构，从所述微波辐射部件的中央也在所述腔室内的中央部生成表面波等离子体。

5.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

收纳被处理基板的腔室；

向所述腔室内供给气体的气体供给机构；和

向所述腔室内辐射微波而形成表面波等离子体的微波等离子体源，

所述等离子体处理装置通过所述表面波等离子体对被处理基板实施等离子体处理，

所述微波等离子体源包括：

生成并输出微波的微波输出部；

用于传送从所述微波输出部输出的微波的的微波供给部；和

构成所述腔室的顶壁，用于将从所述微波供给部供给来的微波辐射到所述腔室内的微波辐射部件，

所述微波供给部包括微波导入机构，该微波导入机构在所述微波辐射部件之上的与所述腔室内的周缘部分对应的位置沿圆周方向设置有多个，将微波导入到所述微波辐射部件，

所述微波辐射部件包括：

隙缝天线部，其具有沿着配置有所述微波导入机构的微波导入机构配置区域以整体形状呈圆周状的方式设置有多个的微波辐射用的隙缝；和

微波透射部件，其在与所述微波导入机构配置区域对应的位置以覆盖所述隙缝的方式设置成圆周状，由使从所述隙缝辐射的微波透射的电介质构成。

6.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波辐射部件在与所述微波导入机构对应的位置具有用于缩短微波的波长的滞波件。

7.如权利要求5或6所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波辐射部件还包括：设置于所述隙缝天线部的内侧部分，向所述腔室内喷淋状地导入用于等离子体处理的气体的喷淋构造部。

8.如权利要求5～7中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波辐射部件呈圆板状，所述微波等离子体源还包括配置在所述微波辐射部件之上的与所述腔室内的中央部分对应的位置的微波导入机构，从所述微波辐射部件的中央也在所述腔室内的中央部生成表面波等离子体。

9.如权利要求5或6所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波辐射部件呈与所述腔室内的周缘部对应的环状，

所述等离子体处理装置还包括：

载置被处理基板的载置台；

在所述微波辐射部件的内侧部分向所述腔室内喷淋状地导入用于等离子体处理的气体的喷淋头；和

在所述喷淋头与所述载置台之间形成高频电场的高频电场形成机构，

利用所述高频电场形成机构在所述腔室内形成电容耦合等离子体。