[发明专利]传片系统及半导体加工设备有效
申请号: | 201410784454.2 | 申请日: | 2014-12-17 |
公开(公告)号: | CN105762098B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 陈春伟 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人: | 左文;段志慧 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 系统 半导体 加工 设备 | ||
1.一种传片系统,包括转盘和机械手,其特征在于,在所述转盘上沿其周向间隔设置有多个承载位,每个所述承载位所在位置处固定设置有用于承载基片的至少一个支撑柱;
所述转盘用于绕其轴向旋转使每个所述承载位旋转至传片位置;
所述机械手用于在每个所述承载位旋转至传片位置之后,对该承载位所在位置处的所述支撑柱传片;
所述机械手具有升降功能,用以在放片过程中先移动至所述支撑柱的顶端上方再下降至该顶端下方,以使所述基片自所述机械手传输至所述支撑柱;以及,在取片过程中先移动至所述支撑柱的顶端的下方再上升至该顶端的上方,以使所述基片自所述支撑柱传输至所述机械手;
并且,所述支撑柱的高度在预设范围内。
2.根据权利要求1所述的传片系统,其特征在于,对应每个所述承载位,每个所述支撑柱用于承载基片的中心区域。
3.根据权利要求1所述的传片系统,其特征在于,对应每个所述承载位,所述支撑柱的数量为多个,且沿所述基片的周向间隔设置,每个所述支撑柱用于承载所述基片的边缘区域。
4.根据权利要求3所述的传片系统,其特征在于,对应每个所述承载位,每个所述支撑柱侧壁的靠上位置处设置有朝向所述基片的一侧凸出的凸台,所述凸台用于承载所述基片的边缘区域。
5.根据权利要求4所述的传片系统,其特征在于,所述凸台的台面与其上方的所述支撑柱侧壁之间直接连接,并且所述凸台的台面与其上方的所述支撑柱侧壁之间角度为钝角。
6.根据权利要求5所述的传片系统,其特征在于,所述凸台的台面上方的所述支撑柱侧壁为平面。
7.根据权利要求4所述的传片系统,其特征在于,所述凸台与所述转盘之间的垂直距离大于6mm。
8.根据权利要求3所述的传片系统,其特征在于,对应每个所述承载位,在所述转盘上设置有通孔,多个支撑柱设置在所述通孔的上端面或内侧壁上;
还设置有基座升降机构,所述基座升降机构包括基座和基座升降驱动器,所述基座升降驱动器用于驱动所述基座在其上方的所述通孔内升降,以将所述支撑柱上的所述基片顶起至工艺位置,从而实现所述基片在所述支撑柱的顶端和所述工艺位置之间移动。
9.一种半导体加工设备,包括传片系统,其特征在于,所述传片系统采用权利要求1-8任意一项所述的传片系统。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造