[发明专利]一种Z轴负向放大一维精密定位平台

权利要求书

1.一种Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：包括Z轴负向放大机构、用于保护Z轴负向放大机构的基座、位于Z轴负向放大机构上方的运动平台，所述Z轴负向放大机构包括若干柔性臂、固定在柔性臂两侧的平行板、连接柔性臂与运动平台的输出件、压电陶瓷安装件以及与基座连接固定的底盘，所述平行板通过柔性铰链与柔性臂柔性连接，位于所述平行板之间、所述Z轴负向放大机构下方、所述底盘上方的空间内设置有压电陶瓷，所述压电陶瓷通过设置在两侧的平行板上的压电陶瓷安装件固定。

2.根据权利要求1所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：所述压电陶瓷安装件包括预紧螺母以及钢珠，与压电陶瓷柔性连接。

3.根据权利要求2所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：所述预紧螺母采用细牙螺纹。

4.根据权利要求1所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：所述Z轴负向放大机构的放大倍数为4倍。

5.根据权利要求1所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：位于所述压电陶瓷下方的底盘上设置有容纳屏蔽线的保护套。

6.根据权利要求1所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：所述Z轴负向放大机构与基座螺钉连接。

7.根据权利要求1所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：所述运动平台上表面设置有用于安装运动件的连接螺纹。

8.根据权利要求1所述的Z轴负向放大一维精密定位平台，其特征在于：所述运动平台外围设置有上盖板，所述上盖板架设于所述基座上。