[发明专利]一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法

权利要求书

1.一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一、采用激光干涉计对所述刻划刀架在每条刻线刻划过程中的固有位置误差进行多次测量，取平均值，从而获得代表刻划刀架固有位置误差的一维数组；

步骤二、采用衍射波前测量仪对光栅基底的面形误差进行测量，从而获得光栅基底的面形误差矩阵；

步骤三、根据步骤一测量得到的刻划刀架固有位置误差数组和步骤二得到的光栅基底面形误差矩阵，建立补偿上述误差后的光栅刻刀在消像差光栅刻划任意位置处的理想位置表达式；

步骤四、准备光栅刻划实验条件；将压电执行器的位置设置在其总行程的一半位置，然后将光栅刻划刀架移动至一条刻线开始位置，将用于位置测量的激光干涉计的读数清零；设置光栅刻划总刻线数；

步骤五、将光栅基底放置于工作台上，进行消像差光栅刻划；在每条光栅刻线的刻划过程中，实时调整压电执行器的位置，使激光干涉计的位置读数与步骤三给出的光栅刻刀的理想位置的偏差量最小；

步骤六、在完成光栅最后一个刻线刻划后，停止光栅刻划。

2.根据权利要求1所述的一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法，其特征在于，在步骤五进行光栅刻划过程中，对所述刻划刀架的固有位置误差和光栅基底面形误差进行实时补偿。

3.根据权利要求1所述的一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法，其特征在于，该方法适用的机械刻划装置主要包括：导轨、滑套、刀架转接板、激光干涉计、压电执行器、刻划刀架、参考反射镜、二维调整架、光栅刻刀、长条形测量反射镜、工作台、光栅基底、测量反射镜二和激光干涉计二；

所述激光干涉计用来测量所述光栅刻刀和所述光栅基底在z轴方向的相对位置变化；

所述激光干涉计二用于实现对所述刻划刀架在x轴方向的位置变化进行实时测量；

所述压电执行器用于实时调整所述光栅刻刀的位置使之满足消像差光栅的具体要求。