[发明专利]光刻胶组合物、形成图案的方法和薄膜晶体管衬底的制法

说明书

本发明公开光刻胶组合物、形成图案的方法和制造薄膜晶体管衬底的方法，所述组合物包括溶剂、酚醛清漆树脂、重氮类光敏剂、由以下化学式1表示的丙烯酰基化合物，在化学式1中，R1为氢原子或甲基，R2为芳族基团或烷基，所述烷基具有1‑1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，R3、R4和R5各自独立地为烷氧基，所述烷氧基具有1‑1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，并且X、Y和Z各自独立地为1‑100的整数。<化学式1>

技术领域

实施方案涉及光刻胶组合物、形成图案的方法和制造薄膜晶体管衬底的方法。

背景技术

用于显示器件的显示衬底可包括用作用于驱动像素单元的切换元件的薄膜晶体管、连接至该薄膜晶体管的信号线、和像素电极。所述信号线可包括提供栅极信号的栅极线、和与该栅极线交叉并提供数据信号的数据线。

光刻工艺可用于形成薄膜晶体管、信号线和像素电极。根据光刻工艺，可在目标(对象)层上形成光刻胶图案，且可通过使用该光刻胶图案作为掩模使该目标层图案化以形成期望的图案。

发明内容

实施方案涉及光刻胶组合物、形成图案的方法和制造薄膜晶体管衬底的方法。

所述实施方案可通过提供光刻胶组合物而实现，所述光刻胶组合物包括：溶剂；酚醛清漆树脂；重氮类(基于重氮的，diazide-based)光敏剂；和由以下化学式1表示的丙烯酰基化合物，其中：R1为氢原子或甲基，R2为芳族基团或烷基，所述烷基具有1-约1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，R3、R4和R5各自独立地为烷氧基，所述烷氧基具有1-约1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，并且X、Y和Z各自独立地为1-约100的整数，

<化学式1>

所述组合物可包括约5-约30重量％的酚醛清漆树脂、约2-约10重量％的重氮类光敏剂、约0.03-约2重量％的丙烯酰基化合物、和余量的溶剂。

所述丙烯酰基化合物的重均分子量可为约5,000-约30,000。

由化学式1表示的丙烯酰基化合物可由以下化学式2表示，其中R6为烷基，所述烷基具有约10-约70个碳原子且具有直链形状，并且n为约10-约40的整数，

<化学式2>

所述重氮类光敏剂可包括重氮萘醌磺酰卤化合物与酚化合物的反应产物。

所述重氮类光敏剂可包括选自2,3,4-三羟基二苯甲酮-1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯和2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮-1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯的至少一种。

所述酚醛清漆树脂的重均分子量可为约4,000-约30,000。

所述溶剂可包括选自二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯和二甘醇的至少一种。

所述实施方案可通过提供形成图案的方法而实现，所述方法包括：在基础衬底上形成目标层；在目标层上涂覆光刻胶组合物以形成光刻胶层，所述光刻胶组合物包括酚醛清漆树脂、重氮类光敏剂、丙烯酰基化合物和溶剂，所述丙烯酰基化合物由以下化学式1表示，其中R1为氢原子或甲基，R2为芳族基团或烷基，所述烷基具有1-约1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，R3、R4和R5各自独立地为烷氧基，所述烷氧基具有1-约1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，并且X、Y和Z各自独立地为1-约100的整数；

<化学式1>

将光刻胶层部分地暴露于光；除去光刻胶层的暴露部分以形成光刻胶图案；以及通过使用光刻胶图案作为掩模使目标层图案化。