[发明专利]半反半透玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率为18％～75％，所述半反半透玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层；

所述第一低折射率层的材料为SiO₂；

所述第一高折射率层的材料为Nb₂O₅；

所述第二低折射率层的材料为SiO₂；

所述第二高折射率层的材料为Nb₂O₅；

所述第三低折射率层的材料为SiO₂；

所述第三高折射率层的材料为Nb₂O₅；

所述第四高硬度折射率层的材料为Si₃N₄；

所述第一低折射率层的厚度为

所述第一高折射率层的厚度为

所述第二低折射率层的厚度为

所述第二高折射率层的厚度为

所述第三低折射率层的厚度为

所述第三高折射率层的厚度为

所述第四高硬度折射率层的厚度为

2.根据权利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的折射率为1.52。

3.根据权利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的厚度为0.3～3.0mm。

4.根据权利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率为50％，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为

5.根据权利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率为70％，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为

6.根据权利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率为20％，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为

7.一种半反半透玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板的表面依次磁控溅射沉积第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层，得到反射率为18％～75％的所述半反半透玻璃，其中，所述第一低折射率层的材料为SiO₂，所述第一高折射率层的材料为Nb₂O₅，所述第二低折射率层的材料为SiO₂，所述第二高折射率层的材料为Nb₂O₅，所述第三低折射率层的材料为SiO₂，所述第三高折射率层的材料为Nb₂O₅，所述第四高硬度折射率层的材料为Si₃N₄，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为

8.根据权利要求7所述的半反半透玻璃的制备方法，其特征在于，还包括步骤：对所述玻璃基板进行清洗并干燥。

9.根据权利要求7所述的半反半透玻璃的制备方法，其特征在于，所述玻璃基板的折射率为1.52。

10.根据权利要求7所述的半反半透玻璃的制备方法，其特征在于，所述玻璃基板的厚度为0.3～3.0mm。