[发明专利]留边波浪切高方阻铝金属化膜在审
| 申请号： | 201410800785.0 | 申请日： | 2014-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN104465094A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 曹骏骅;吴平 | 申请（专利权）人： | 安徽赛福电子有限公司 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G4/015 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 244000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 波浪 切高方阻铝 金属化 | ||
1.留边波浪切高方阻铝金属化膜，其特征是，包括：
绝缘质地的基膜（1）和位于所述基膜上的金属镀层，所述金属镀层位于所述基膜（1）的一侧，所述基膜（1）的另一侧设置有留边（11），所述留边（11）的边缘侧为波浪切边结构；
所述金属镀层朝向所述留边（11）的一侧为镀层厚度一致的高阻区（21），所述金属镀层背向所述留边（11）的一侧为镀层厚度一致的低阻区（23），所述高阻区（21）的镀层厚度小于所述低阻区（23）的镀层厚度，且所述高阻区（21）和所述低阻区（23）之间设置有镀层厚度渐变的过渡区（22）。
2.如权利要求1所述的留边波浪切高方阻铝金属化膜，其特征是，所述留边（11）的有效宽度（d）为4毫米～6毫米，所述波浪切边结构为正弦波形，且所述波浪切边的相邻峰顶间距（e）为5毫米～8毫米，所述波浪切边的幅宽（f）为0.5毫米～1.0毫米。
3.如权利要求1或2所述的留边波浪切高方阻铝金属化膜，其特征是，所述基膜（1）的厚度为4微米～10微米，所述过渡区（22）的宽度（b）小于等于所述低阻区（23）宽度（a）的三分之一，所述过渡区（22）的宽度（b）和所述低阻区（23）的宽度（a）之和为所述高阻区（21）宽度（c）的一半。
4.如权利要求3所述的留边波浪切高方阻铝金属化膜，其特征是，所述低阻区（23）的阻值为1～3 Ω/口，所述低阻区（23）和所述过渡区（22）的整体阻值为40～120 Ω/口。
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