[发明专利]一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔在审
申请号: | 201410807536.4 | 申请日: | 2014-12-23 |
公开(公告)号: | CN105790055A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 张启航 | 申请(专利权)人: | 山东海富光子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/08 | 分类号: | H01S3/08 |
代理公司: | 威海科星专利事务所 37202 | 代理人: | 于涛 |
地址: | 264209 山东省威海市高技术产*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 光纤 腐蚀 谐振腔 | ||
技术领域
本发明属于光纤及激光技术领域,特别是涉及一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔。
背景技术
微盘谐振腔是一种回音壁模(WhisperingGalleryMode,WGM)谐振腔,具有许多非常重要的应用,例如生物传感、拉曼激光器、激光反射器以及最近刚刚引起关注的光频梳。作为一种平面微谐振腔,微盘谐振腔不仅具有超高的Q值(),而且可以很好的抑制高阶方位角模式,这一特性非常适合用作窄线宽激光器及单频激光器的模式选择。要得到超高的Q值,微盘谐振腔必须同时具备低表面粗糙度、低吸收率以及最优化的尺寸。回音壁模谐振腔发现后的近20年,大量研究主要集中在半导体基底刻蚀微盘谐振腔,这对材料选择及刻蚀技术都提出很高的要求。2006年有学者利用纯石英材料成功得到了Q值为的微盘谐振腔,扩宽了微盘谐振腔的适用材料。到2013年,有文章报道利用飞秒激光微加工技术加之电极放电得到Q值为的微盘谐振腔,但是该种方法加工成本较高,同样需要较高的加工要求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种加工成本低的基于光纤腐蚀的微盘谐振腔及其制作方法,它可以实现光学频梳,还可以用于窄线宽激光器及单频激光器的模式选择。
本发明是通过以下技术方案加以实现的:
一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔,其特征在于由微盘1和内包层腐蚀成腰形的光纤支柱2组成,微盘1为厚度15-25微米带完整内包层的圆盘体,光纤支柱2由带涂覆层的底座3和内包层未被腐蚀的支撑杆4组成,微盘1通过光纤支柱2得以支撑,光纤支柱2的纵剖面呈抛物线形状,光纤支柱2上端与微盘1一体,光纤支柱2下端与底座3和支撑杆4一体,光纤贯穿微盘、支撑杆4支撑杆并与微盘、光纤支柱、支撑杆和底座的轴线相重合。
所述微盘直径为80μm-600μm。
所述微盘材质可以是石英玻璃,可以是锗酸盐玻璃,也可以是磷酸盐玻璃。
所述光纤支柱可以是石英玻璃光纤,可以是锗酸盐玻璃光纤,也可以是磷酸盐玻璃光纤。
本发明中的微盘谐振腔位于光纤末端,是在与光纤末端一定距离处用氢氟酸溶液对包层进行腐蚀处理得到,光纤末端为未受任何处理的内包层构成圆形微盘的边缘,微盘材质与光纤相同,微盘边缘光滑可构成具有较高品质因子的谐振腔,有益效果一是利用成本低的氢氟酸溶液腐蚀来制作微盘谐振腔,因此工艺步骤简单,设备投资低;二是微盘谐振腔其材料与光纤相同,可以用于窄线宽及单频光纤激光器的模式选择。
附图说明
图1本发明的一种结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的描述:
如图所示:一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔,其特征在于由微盘1和内包层腐蚀成腰形的光纤支柱2组成,微盘1为厚度15-25微米带完整内包层的圆盘体,光纤支柱2由带涂覆层的底座3和内包层未被腐蚀的支撑杆4组成,微盘1通过光纤支柱2得以支撑,光纤支柱2的纵剖面呈抛物线形状,光纤支柱2上端与微盘1一体,光纤支柱2下端与底座3和支撑杆4一体,光纤贯穿微盘、支撑杆4支撑杆并与微盘、光纤支柱、支撑杆和底座的轴线相重合;所述微盘直径为80μm-600μm;所述微盘材质可以是石英玻璃,可以是锗酸盐玻璃,也可以是磷酸盐玻璃;所述光纤支柱可以是石英玻璃光纤,可以是锗酸盐玻璃光纤,也可以是磷酸盐玻璃光纤。本发明中的微盘谐振腔位于光纤末端,是在与光纤末端一定距离处用氢氟酸溶液对包层进行腐蚀处理得到,光纤末端为未受任何处理的内包层构成圆形微盘的边缘,微盘材质与光纤相同,微盘边缘光滑可构成具有较高品质因子的谐振腔,有益效果一是利用成本低的氢氟酸溶液腐蚀来制作微盘谐振腔,因此工艺步骤简单,设备投资低;二是微盘谐振腔其材料与光纤相同,可以用于窄线宽及单频光纤激光器的模式选择。
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