[发明专利]一种保温足浴盆在审

专利信息
申请号: 201410809519.4 申请日: 2014-12-21
公开(公告)号: CN105768996A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 石立丽 申请(专利权)人: 天津市诺唯兴和科技有限公司
主分类号: A47K3/022 分类号: A47K3/022
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 韩敏
地址: 300222 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 保温 浴盆
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种足部保健装置,具体涉及一种保温足浴盆。

背景技术

当今都市生活节奏快、环境污染严重、工作负荷大和竞争激烈,加之许多人 饮食结构不合理、个人烟酒过度等不良嗜好,越来越多的人们处于亚健康状态, 他们正是足部反射保健服务的最适合和主要对象。

脚对人体的养生保健作用,很早就引起古人的重视和研究。其中“足浴”更以 其简便灵验的特点,盛行千载而不衰。如果经常用热水浴脚,能刺激足部穴位, 增强血脉运行,调理脏腑,舒通经络,增强新陈代谢,从而达到强身健体祛除病 邪的目的。

一般的用热水洗脚、烫脚不能称为“泡脚”,因为时间不够。水温合适后,因 缺乏持续的加热,用不了十分钟或八分钟水就凉了,特别是冬天,水凉得更快。 而泡脚、烫脚的时间必须达到25‐30分钟,否则就达不到通络活血的效果。大多 数人都是通过不断的往足浴盆里续入热水以保持水温,但是随着盆里的水越来越 多,需要加入的热水量也越来越多,结果造成了大量的热水浪费。

足浴盆是足浴常用的工具,当加入的水温过高的时候,大多人都是通过加入 凉水来调节温度,或者坐等着水温下降,使得泡脚程序很繁琐。另外,大多数足 浴盆都是使双脚直接接触盆底,使得真正浸泡脚底穴位的水很深,起不到真正的 “足浴”效果。

发明内容

为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种保温足浴盆,在木质 外壁与内壁之间设有硬质聚氨酯泡沫保温中间层,所述保温足浴盆包括夹板、盆 底、支架,所述夹板固定在所述盆底的上部并与所述足浴盆的侧壁无缝连接,所 述支架固定在所述夹板的上表面,所述盆底靠近边缘的位置设有开孔。

其中,所述夹板与所述盆底之间的高度差为5-10cm。

其中,所述支架由支板和支杆两部分固定连接组成。

其中,所述夹板上设置有若干个与所述支杆的形状相对应的通孔,使得所述 支杆通过活动镶嵌方式固定在所述夹板上。

其中,所述支架的高度为3-10cm。

本发明的以上技术方案具有以下的有益效果:本发明在现有技术,足浴盆内 壁与外壁之间设有聚氨酯保温层的基础上,使得足浴盆具有良好的保温效果,当 人们泡脚的时候,水温可以持续保持在一个较高的水平,达到很好的缓解疲劳的 泡脚效果。另外,本技术方案在足浴盆的盆底设置有若干个支架。支架的作用包 括,当水的高度小于所述支板的高度时,可以享受水蒸气蒸着双脚的感觉,也可 以在水温过热时,双脚放在支架上等待水温下降;当水的高度大于所述支板的高 度时,双脚可以放在支架上,使得盆底的水更好的浸泡脚底。本发明在盆底又设 置了一个夹层,可以通过多次将凉水流入夹层,再填入热水来持续保温,又减少 热水的加入量。

附图说明

图1为本发明的足浴盆的正视图。

图2为本发明的足浴盆的盆底支架的正视图。

其中,1:外壁;2:硬质聚氨酯泡沫保温中间层;3:内壁;4:夹板;5: 盆底;6:支架;7:开孔;8:支板;9:支杆。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例 用于说明本发明,但不能用来限制本发明的范围。

本实施例中的所述的保温足浴盆的支架用于更好的对脚部起到浸泡效果。所 述保温足浴盆的夹板4上设置有若干个支架6,所述支架6与夹板5通过活动镶 嵌式连接。所述支架6由支板8和支杆9两部分组成。所述保温足浴盆夹板4 与盆底5直接设置有夹层,夹层的高度为5-10cm,盆底5的边缘设有开孔7, 可以在结束足浴后将夹板4与盆底5之间的夹层内的水倒出。

本技术方案使得水温可以持续保持在一个较高的水平,达到很好的缓解疲劳 的泡脚效果。本技术方案在足浴盆的夹板4上方设置有若干个支架6。支架的作 用包括,当水的高度小于所述支板8的高度时,可以享受水蒸气蒸着双脚的感觉, 也可以在水温过热时,双脚放在支架6上等待水温下降;当水的高度大于所述支 板8的高度时,双脚可以放在支架6上,使得盆底的水更好的浸泡脚底。另外, 本技术方案在足浴盆的夹板4上设置有活动支架,当水温下降时可以取下活动支 架,使一部分凉水流入夹板4与盆底5之间的夹层,再放回活动支架,这时再加 入少量的热水就可以使水温上升到所需温度。

以上实施例对本发明进行了详细说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例, 不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与 改进等,均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。

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