[发明专利]一种宽波段光全吸收器及其制备方法

权利要求书

1.一种宽波段光全吸收器，它包括平整金属膜（1）、平整介质膜层（2）和金属纳米结构膜（3），其特征在于光学波段宽频带宽光谱光完美吸收及其由常规物理沉积方法即可获得大面积制备的低成本的三维亚波长金属-介质结构自下而上依次由平整金属膜（1）、平整介质膜层（2）和金属纳米结构膜（3）组成。

2.根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于平整金属膜（1）的厚度为不小于50 nm；所述平整金属膜（1）的材料为铜、铝、钨、银或金等金属材料。

3.根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于平整介质膜层（2）的厚度为10-200 nm；所述平整介质膜层（2）的材料为玻璃、石英和氧化铝等介质材料。

4.根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于金属纳米结构膜（3）的结构为物理沉积法获得纳米颗粒组成的密排结构。

5.根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于金属纳米结构膜（3）的结构可通过物理沉积法获得；物理沉积法包括离子溅射法、脉冲沉积法、磁控溅射法。

6.根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于金属纳米结构膜（3）的结构其特征在于金属纳米颗粒大小处于5-200 nm范围。

7.根根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于金属纳米结构膜（3）的结构其特征在于相邻金属纳米颗粒大小间距处于0-20 nm范围。

8.根根据权利要求1所述的宽波段光全吸收器，其特征在于金属纳米结构膜（3）的结构其特征在于相邻金属纳米颗粒所组成的膜层的厚度处于0-15 nm范围。

9.一种权利要求1所述的宽波段光全吸收器的制备方法，其特征在于：具有宽波段光全吸收的金属-介质-金属结构体系的制备方法包括以下步骤：

（1）通过物理或化学沉积法在平整衬底表面沉积金属膜层；

（2）在步骤（1）中所得的金属膜层上通过物理或化学沉积法在平整衬底表面沉积介质膜层；

（3）利用物理沉积方法包括氩离子溅射或磁控溅射等方法在步骤（2）中获得的结构上沉积特定厚度的金属膜层即金属纳米颗粒膜层结构；

在步骤（1）中，所述平整衬底包括石英、玻璃、硅片或有机膜；

在步骤（1），（2）中，所述的物理或化学沉积方法包括真空镀膜法、金属热蒸发镀膜法、磁控溅射法、激光脉冲沉积法、原子层沉积法、化学镀方法、电化学方法中的一种或几种的混合方法；

在步骤（3）中，所述的物理沉积方法包括真空镀膜法、金属热蒸发镀膜法、磁控溅射法、激光脉冲沉积法中的一种或几种的混合方法。