[发明专利]一种硅晶片细抛光组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种硅晶片细抛光组合物，其特征在于，所述组合物包括以下组分及含量：

10重量％至50重量％的酸性二氧化硅溶胶；

0.01重量％至1重量％的一种或多种二醇化合物；

0.1重量％至1重量％的一种硫脲类化合物；

0.5重量％至5重量％的一种或多种碱性化合物；

0.01重量％至3重量％的一种盐；

0.001重量％至0.05重量％的一种表面活性剂；

去离子水余量。

2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物的pH值为9至12。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述酸性二氧化硅溶胶是10～100nm，pH小于6的酸性硅溶胶。

4.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述二醇化合物为乙二醇(EG)、丙二醇(PG)、丁二醇(BG)、己二醇(HG)、二乙二醇(DEG)、三乙二醇(TEG)、聚乙二醇(PEG)、聚丙二醇(PPG)中的一种或多种。

5.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述硫脲类化合物为硫脲(TU)、甲基硫脲(MTU)、二甲基硫脲(DMTU)、四甲基硫脲(TMTU)、乙基硫脲(ETU)、二乙基硫脲(DETU)、正丙基硫脲(PTU)、二异丙基硫脲(DPTU)、烯丙基硫脲(ATU)、苯基硫脲(PHTU)、甲苯基硫脲(TTU)和氯苯基硫脲(CPTU)中的一种。

6.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述碱性化合物为氢氧化钾(KOH)、氢氧化钠(NaOH)、四甲基氢氧化铵(TMAH)、氨(NH3)、甲基胺(MA)、二甲基胺(DMA)、三甲基胺(TMA)、乙基胺(EA)、二乙基胺(DEA)、三乙基胺(TEA)、异丙醇胺(MIPA)、氨基丙醇(AP)、四乙基胺(TEAH)、乙醇胺(MEA)、二乙基三胺(DTA)、三乙基四胺(TTA)、羟乙基乙二胺(AEEA)、六亚甲基二胺(HDA)、二亚乙基三胺(DETA)、三亚乙基四胺(TETA)、无水哌嗪(PIZ)、六水哌嗪(PHA)中的一种或几种。

7.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述盐为沉淀膜型缓蚀剂，为碳酸、磷酸，具体为碳酸及其酸式的铵、钾、钠盐；磷酸及其酸式的铵、钾、钠盐中的一种。

8.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂或阳离子表面活性剂中的一种。

9.根据权利要求8所述的组合物，其特征在于，所述非离子表面活性剂为聚二甲基硅氧烷(PDMS)、脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)、聚氧丙烯聚氧乙烯嵌段共聚物(EO-PO)；阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠(SDBS)、十二烷基磺酸钠(K-12)，α-烯烃磺酸钠(AOS)、丁二酸二异辛酯磺酸钠(AOT)、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES)；阳离子表面活性剂为十四烷基二甲基苄基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵(TDBAC)、瓜耳胶羟丙基三甲基氯化铵(C-162)、溴化十二烷基三甲基铵(DTAB)、溴化十二烷基二甲基苄基铵(DDBA)中的一种。

10.一种根据权利要求1-9任一项所述组合物的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

1)按所述比例称取各组分，用搅拌器将酸性二氧化硅溶胶分散于去离子水中；

2)在搅拌条件下，加入二醇化合物后再加入硫脲类化合物；

3)再加入表面活性剂，而且加入碱性化合物与盐的混合物，并将抛光组合物pH值调节至9～12；

4)用孔径为0.5μm的滤芯对抛光组合物进行过滤，以除去抛光组合物中的大颗粒杂质，即获得成品。